原理：

濺射功能依據二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調整控制器、微型真空氣閥在工作時結合內部自動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。

熱蒸發功是能通過對碳纖維繩加熱使其蒸發氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝。

參數：

2  儀器尺寸 ：主機    300mm×360mm×380mm（W×D×H）

              蒸鍍  300mm×360mm×160mm（W×D×H）

2  真空樣品室： 玻璃腔體 160mm×110mm（D×H）

2  靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

2  濺射靶 ：二極直流濺射靶 （標配）磁控靶（選配）    

2  濺射靶材：Au

2  濺射靶材大小：φ50mm

2  樣品臺：50mm (D)

2  濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調

2  濺射電流：0-50 mA (磁控0-100mA)

2  濺射定時：0-999S

2  蒸碳電流    0-100A(AC)

2  蒸發材料：碳纖維

2  蒸發工作電壓：0-30V

2  蒸發時間：0-1S

2  微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

2  可通入氣體： 多種

2  真空泵：    2升機械旋轉泵（國產VRD-8）

2  速率：0--10nm/min（磁控0—60nm/min）

用途：

1、適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）觀察前對樣品的噴金、噴鉑、噴碳等。

2、非導體材料實驗電極制作（噴金、噴鉑、噴銀等）

3、其他可以滿足條件的鍍膜實驗。

特點：

1、簡單、經濟、可靠、外觀精美。

2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小（顆粒大小約4-20nm）。

3、SETPLASMA手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。

6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

7、獨立的濺射、蒸發上蓋和玻璃腔體防止交叉污染。

8、一體機更加經濟實惠。

9、碳纖維繩更加細膩均勻、快速，更有利于分析材料結構。

10、濺射蒸發功能轉換方便快捷。