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2024
06-06掃描電鏡拍攝技巧（一）｜如何避免掃描電鏡觀察過程中碳沉積現象
掃描電鏡拍攝技巧｜如何避免掃描電鏡觀察過程中碳沉積現象在使用掃描電鏡進行樣品觀察時，尤其是采用二次電子模式，隨著觀察時間的延長，在觀察的區域會出現一塊黑的矩形的區域。如下圖所示，對一塊空白的鋁制樣品臺進行觀察時，一段時間后降低放大倍數，發現圖像中間有一明顯的黑色矩形，我們可以簡單的稱這種現象叫做碳沉積。碳沉積主要原理：在掃描電鏡的樣品區往往存在一些碳氫化合物，被電子束轟擊后，會形成帶正電荷的碳離子。掃描電鏡觀察樣品時，電子束在微區掃描使得該區域電子較為富集，碳離子會向該區域富集并沉積下來，影響該2024
06-05設備更新｜掃描電鏡 SEM & 透射電鏡 TEM 離子束制樣設備
設備更新｜掃描電鏡SEM&透射電鏡TEM離子束制樣設備2024年3月1日，《推動大規模設備更新和消費品以舊換新行動方案》審議通過。會議指出，推動新一輪大規模設備更新和消費品以舊換新，是著眼于我國高質量發展大局作出的重大決策。同時指出，新一輪換新工作仍堅持標準，更好發揮能耗、排放、技術等標準的牽引作用，智能、綠色、低碳的科研儀器，將成為設備更新的主力軍。我們積極響應大規模設備更新政策，推出掃描電子顯微鏡和透射電子顯微鏡的離子束制樣設備綜合解決方案，支持各位老師設備更新，歡迎隨時聯系我們快速獲取上報2024
06-032024
05-31原子層沉積（ALD）技術鋰電材料：電極粉末包覆的必要性（下）
在上篇文章中，我們介紹了原子層沉積（ALD）方法包覆電極材料的必要性以及粉末涂層（PC）和極片涂層（DC）兩種不同的改性策略。（詳見：原子層沉積（ALD）技術在鋰電材料中的應用（一）：電極粉末包覆的必要性（上））ALD方法對于電極材料的改善有目共睹，但涂層的選擇以及設備的選擇是關鍵。極片涂層依賴卷對卷設備和苛刻的低溫要求。粉末包覆更適合從源頭進行界面的改善。本篇文章我們將介紹粉末原子層沉積（PALD）工藝及其在電極材料包覆中的應用。01.“粉末原子層沉積（PALD）工藝”對于粉末樣品的ALD研究2024
05-29使用低能離子精修制備高質量的鋰離子導體固態電解質透射電鏡樣品
引言使用FIB切削獲得超薄樣片(lamella)，是一種常見的塊體材料TEM制樣方法。然而，鎵離子束輻照損傷所帶來的非晶層卻像一片難以驅散的迷霧，阻礙著人們獲得更高質量的TEM照片，進而也限制了對輕元素的量化分析。可以選擇離子精修儀對FIB非晶層進行修復。Part01APPLICATIONCASES低能氬離子精修非晶層GentleMill低能離子精修儀可制備離子損傷更小、非晶層更薄的TEM樣品。最近，上海科技大學的于奕老師團隊等人使用GentleMill低能氬離子精修儀，以固態電解質LLTO為例2024
05-282024
05-282024
05-272024
05-242024
05-23為什么使用原子層沉積（ALD）方法對電極材料進行包覆是必要的？
為什么使用原子層沉積（ALD）方法對電極材料進行包覆是必要的？鋰電池電極由各種類型的粉末制備合成，對粉末材料表面進行包覆已經成為提高電池性能的有效策略。尤其在固態電池中，固體電解質顆粒(SSA)和電極組合之間的界面兼容性問題仍然存在，通過界面涂層可有效地解決這一問題。因此，電極表面工程作為一項新興技術，有望提高電池的性能和安全性。原子層沉積(ALD)技術已被證明是在亞納米尺度上制造無機薄膜的高效方法，可在平面甚至高曲率的顆粒表面控制薄膜厚度以及均勻性。原子層沉積（ALD）包覆能保證超薄的均勻涂層2024
05-222024
05-20顯微CT無損檢測技術，在增材制造和粉末冶金領域發揮什么作用？
隨著科技的飛速發展，顯微CT技術在各個領域的應用愈發廣泛，尤其是在增材制造和粉末冶金領域。顯微CT技術以其高分辨率、非破壞性的特點，為微觀層面的材料結構和缺陷分析等提供了解決方案，為增材制造和粉末冶金行業的發展注入了新的活力。Part01.什么是顯微CT？顯微CT技術利用X射線照射樣品，通過探測器記錄透射的X射線強度分布，再利用計算機算法重構出樣品的三維內部結構。其能夠在非破壞的情況下，提供高分辨率和三維圖像。顯微CT結構示意圖：射線源和探測器不動，樣品臺旋轉顯微CT技術可以無損地提供詳細的材料2024
05-17掃描電鏡論文賞析-干旱影響楊樹葉片及次生木質部發育的分子機制
掃描電鏡論文賞析論文標題：ThetranscriptionfactorPtoMYB142enhancesdroughttoleranceinPopulustomentosabyregulatinggibberellincatabolism（PtoMYB142通過調控赤霉素代謝增強楊樹抗旱性的研究）使用儀器：飛納臺式掃描電鏡發表期刊：thePlantJournal因全球變暖增大了樹木因干旱而死亡的生態壓力，推動著樹木節水策略的演變。盡管植物激素與對缺水的形態適應有關，但木本植物中這些過程的分子機制2024
05-162024
05-15【納米顆粒制備技術】干法氣溶膠納米打印技術，加速材料研發進程
增材制造的方法，如納米打印可以大大簡化高比表面積的納米多孔薄膜的制備工藝。這種薄膜材料的應用很多，包括電催化、化學、光學或生物傳感以及電池和微電子產品制造等。因此，一種基于氣溶膠的直寫方法能夠實現無機納米結構材料的打印直寫。印刷涂層的顆粒由納米粒子發生器產生，經火花燒蝕產生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在20nm以下，且不含表面活性劑或任何其他有機添加物質。納米粒子生產和印刷沉積的整個過程是自動化的，不需要進行后續有機成分的熱處理去除。納米印刷沉積系統工作原理VSP-G1納米粒子發生器(VSP-G1)作2024
05-14臺式場發射掃描-透射（SEM—STEM）電子顯微鏡應用案例分享
在材料研發的過程中，檢測材料的形貌細節和品質，需要各個方位地了解樣品。掃描電鏡是科學研究過程中強有力的表征工具，高分辨成像可以揭示材料細節。現在一些比較好的掃描電鏡可以提供一種先進的成像技術--透射模式（Scanningtransmissioneletronmicroscopy，STEM），這種成像模式可以呈現出與SEM圖像不同的信息。STEM模式和SEM成像效果有什么不同？以導電納米復合材料的研究為例，不同制備方法得到的碳納米管的厚度和長度有所不同。對碳納米管進行準確的表征非常重要（包括長寬比2024
05-132024
05-112024
05-10【臺式透射電鏡】如何解讀生物組織 TEM 超微結構？專家實例分享
【臺式透射電鏡】如何解讀生物組織TEM超微結構？精準醫學研究院電鏡平臺專家實例分享近期飛納臺式場發射掃描透射電子顯微鏡PhenomPharosG2STEM在上海精準醫學研究院（以下簡稱精準院）電鏡平臺成功落戶，完成裝機驗收。精準院電鏡中心成立于2017年11月。配備有3臺冷凍透射電鏡（cryo-TEM）。其中包括FEI公司場發射低溫透射電鏡家族的旗艦產品TitanKriosG3，配備有場發射電子槍以及先進的直接電子檢測相機GatanK3。該電鏡是強大的冷凍透射電鏡之一，具有在接近原子分辨率下解析2024
05-08原子層沉積 ALD工藝揭秘：從效率、溫度到涂層類型的quan方位探討
在上篇文章中，我們結合具體案例為大家介紹了原子層沉積技術的概念、原理和特點。閱讀推薦：一文了解原子層沉積（ALD）技術的原理與特點還有很多朋友提問化學氣相沉積（CVD）和原子層沉積（ALD）的區別，我們從反應效率、均勻性以反應溫度三方面來進行說明。在化學氣相沉積（CVD）中，前驅體被同時且連續地引入反應器中，這些前驅體在熱基材表面相互反應。沉積速度可能比ALD更高，但涂層的粘附性較差，不夠致密，而且不均勻。由于CVD缺乏自鈍化作用，因此也不可能形成均勻的高深寬比涂層。CVD工藝由于在溝槽或孔內前掃一掃訪問手機商鋪
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