特色：

•    體積小巧，容易存放，桌面型

•    輕微復制微米和納米級結構

•    熱壓印溫度高達200°C

•    可選的高溫模塊，適用于240°C

•    UV 納米壓印，365nm曝光

•    真空納米壓?。ㄇ皇铱沙檎婵罩?/span>0.1毫巴）

•    納米壓印壓力高達10巴

•    溫度分布均勻、讀數精準

•    筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，*靈活控制，自動記錄數據

•    直徑大100毫米（圓形）腔室

•    腔室高度為20毫米，可擴展至45毫米

•    即插即用

•    使用簡單直觀

•    專為研發而設計

•    提供安裝和操作教程視頻

應用：在過去五年中，石墨烯的氣體傳感器引起了極大的興趣，顯示出單分子檢測。

近的研究表明，與非圖案化層相比，石墨烯的圖案化強烈地增加了靈敏度。

通過標準程序生長CVD石墨烯，然后轉移到Si / SiO 2基板上進行進一步處理。 如（Mackenzie，2D Materials）中所述，使用物理陰影掩模和激光燒蝕來定義接觸和器件區域。

使用軟壓印在CNI v2.0中進行熱納米壓印光刻。 將mr-I7010E壓印抗蝕劑在130℃，6巴壓力下壓印10分鐘。 壓力在70℃下釋放。

通過反應離子蝕刻將邊緣到邊緣間隔為120-150nm的大面積圖案的孔轉移到石墨烯中，并且用丙酮除去殘留的抗蝕劑。

發現器件具有大約的載流子遷移率發現器件在加工前具有約2000cm2 / Vs的載流子遷移率，之后具有400cm2 / Vs的載流子遷移率處理，同時保持整體低摻雜水平。