產(chǎn)品特點(diǎn)：

數(shù)字光刻系統(tǒng)

微納器件無掩模版直寫光刻

光掩模版制作

3D結(jié)構(gòu)曝光功能                                        

自動對準(zhǔn)功能

用戶自定義標(biāo)記對準(zhǔn)功能

可視化定點(diǎn)曝光功能

自動聚焦功能                                          

不規(guī)則樣片曝光

快速、精細(xì)兩種曝光模式

支持多種數(shù)據(jù)格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）

背部對準(zhǔn)功能（選配）

實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)                          

405nm LD光源（375nm可選）

參數(shù)：