晶圓厚度測(cè)量?jī)x MX 102-8

適用于 150 - 200 mm硅片的高分辨率厚度與平整度（TTV）測(cè)量?jī)x。只需幾秒鐘即可輕松適應(yīng)不同厚度范圍，可集成到自動(dòng)機(jī)器人分揀系統(tǒng)中。適用于研發(fā)、工藝驗(yàn)證以及厚度和平整度（TTV）的工藝控制。一對(duì)電容式傳感器會(huì)在每片晶圓上測(cè)量四個(gè)徑向輪廓（45 度角）。其中一個(gè)輪廓包含 200 個(gè)局部厚度值，并相對(duì)于相鄰輪廓偏移 45 度。配有強(qiáng)大的 MX-NT 操作軟件。

儀器功能：
晶圓厚度測(cè)量?jī)x MX 102-8基于已有的適用于 150 mm和 200mm晶圓的類似測(cè)量設(shè)備，MX 102 能夠生成四個(gè)（或八個(gè)）徑向剖面圖，每個(gè)剖面圖包含數(shù)百個(gè)精確的厚度數(shù)據(jù)點(diǎn)。該設(shè)備配備了一對(duì)分辨率為 10 納米的電容式傳感器，能夠在數(shù)秒內(nèi)快速適應(yīng)不同的厚度測(cè)量范圍。在每次掃描之前，設(shè)備會(huì)通過(guò)一個(gè)經(jīng)過(guò)認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)量塊實(shí)現(xiàn)自動(dòng)重新校準(zhǔn)，以確保測(cè)量結(jié)果的高度準(zhǔn)確性。

多次掃描：
對(duì)于眾多應(yīng)用場(chǎng)景而言，標(biāo)準(zhǔn)的四次徑向掃描通常已能滿足需求，特別是針對(duì)經(jīng)過(guò)研磨處理后接近旋轉(zhuǎn)對(duì)稱特性的晶圓。從理論角度分析，通過(guò)增加掃描次數(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓表面約 50% 區(qū)域的覆蓋。然而，由于晶圓支撐結(jié)構(gòu)的存在，其余部分區(qū)域則會(huì)位于支撐點(diǎn)所形成的“遮擋范圍”內(nèi)，難以直接進(jìn)行掃描。

XN-Option：
針對(duì) 200 mm晶圓，通過(guò)引入一種簡(jiǎn)易的附加運(yùn)動(dòng)即可有效解決上述問(wèn)題。在測(cè)量周期的第一階段完成后，晶圓將被抬升，并由兩個(gè)夾具進(jìn)行臨時(shí)固定，與此同時(shí)，晶圓下方的轉(zhuǎn)盤執(zhí)行 45 度旋轉(zhuǎn)操作。隨后，晶圓重新下降至支撐結(jié)構(gòu)，并由真空吸盤完成二次夾緊，此時(shí)測(cè)量周期的第二階段隨即啟動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)剩余區(qū)域的全面覆蓋。

MX 102 在分辨率與通量之間實(shí)現(xiàn)了優(yōu)化平衡：第二次掃描周期的偏移角度為 22.5 度，從而生成八個(gè)交叉掃描剖面，總測(cè)量點(diǎn)數(shù)可達(dá)約 2400 個(gè)或更多。通過(guò)簡(jiǎn)單的三維圖形化展示，能夠直觀呈現(xiàn)晶圓的整體幾何特性。