一、設備簡介
該真空箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。爐體采超輕質高鋁纖維材料，具有熱容小、溫度升降控制靈活、節能等特點，設備可根據真空度的需要分別選用機械泵或其他真空機組，非常適合于試驗和小批量生產之用。
該設備為密封式加熱腔體,確保設備可在真空條件下,或者一些特殊氣氛條件下使用，相比普通箱式爐，使用環境更靈活，使用范圍更廣泛。
二、技術參數
型號 | LFM1200C 7.2VC |
額定功率 | 4KW |
額定電壓 | AC 220V 單相 |
最高溫度 | 1200℃ |
額定溫度 | ≤1100℃ |
升溫速率 | 10℃/min |
控溫精度 | ±1℃ |
控溫方式 | 模糊 PID 程序控溫（30段程序控溫） |
熱電偶型號 | K 型 |
加熱元件 | 電阻絲 |
設備重量 | 200KG |
外型尺寸（長×深×高） | 660*830*1100mm |
爐膛尺寸（W*D*H） | 300*200*120mm |
爐膛容積 | 7.2L |
空氣開關 | 25A |
冷態極限真空 | ≤100-400Pa |
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