采用W和Mo加熱的金屬爐可以達(dá)到超高真空度和超純凈氣氛的操作要求。金屬爐的金屬加熱元件和金屬隔熱屏適合高溫高真空度應(yīng)用，不會(huì)與樣品發(fā)生反應(yīng)。

除了可以應(yīng)用高真空條件，還可以根據(jù)需要加載氮?dú)猓瑲鍤猓瑲錃饣蚱渌旌蠚怏w。

真空度在10-6 至1000 mbar的范圍。

優(yōu)點(diǎn)概述：

- zui高工作溫度達(dá) 2200°C
- 高純度保護(hù)氣氛 (6N 或更高)
- 高真空度 (zui高可達(dá)10-6 mbar)
- 動(dòng)態(tài)高溫, 加熱或冷卻迅速
- 可提供氫氣分壓控制
- 混合氣體中各氣體壓力控制在10 - 1000 mbar
- 溫和地抽真空控制更適合粉末樣品
- 金屬支架
- 可燃性和有毒氣體的安全控制
- 復(fù)合程序控制，全自動(dòng)操作
- 質(zhì)量管理體系，每日記錄數(shù)據(jù)

應(yīng)用：

釬焊，排氣，燒結(jié)，晶體生長(zhǎng)，金屬注射成型（MIM）

回火，快速成型，脫膠，合成，干燥