產品介紹：P-20工業用臺式等離子刻蝕系統

P-20工業用臺式等離子刻蝕系統是我們一款用于工業強度的臺式等離子體蝕刻系統，和配備氧服務真空泵。 該款強大的功能強、可靠的性能、經濟適用的臺式等離子刻蝕 是專門為每天24小時、每周7天的繁忙工業領域客戶而制造。

P-20臺式等離子蝕刻系統具有三個*的等離子工作模式：
1）反應離子蝕刻（RIE），
2）普通的等離子清洗（Plasma Cleaning）和等離子體刻蝕（Plasma Etching）
3）P-10具有多功能等離子工藝配置，一臺具備各向異性（anisotropic）和各向同性（isotropic ）等離子刻蝕處理的系統。 并且配有可拆卸的托盤設置。

縱覽

全鋁合金材質真空艙可以容納超過3200平方厘米的處理表面，采用進行表面改性增加絕大部分材料表面的粘結強度和清潔度。

小規模生產企業、研發實驗室、檢測中心和大學是該款臺式等離子刻蝕系統的主要用戶。臺式等離子刻蝕系統的行業用戶包括生物醫學，牙科，電子，輕工，醫藥，塑料，光學，太陽能電池的邊緣隔離蝕刻，太陽能電池板等。

特點

采用而非化學試劑槽消除不必要且昂貴的化學試劑廢物排放。簡單易用，直觀的觸摸屏界面提供等離子操作界面，控制等離子刻蝕的各個方面，確保等離子工藝的重復性。
我們可以定制的真空艙和電極配置，以適合您的產品或過程，包括自定義尺寸的水平電極，RIE（反應離子刻蝕）和半導體引線框架料盒。

規格

標準特點
真空艙體材質：鋁合金
電極設置：3套規格為 33cm X 41cm 電極，每套電極板間隔7.6cm
射頻電源：300瓦@13.56MHz射頻電源;自動匹配器網絡 
工藝氣體控制：單套200 SCCM質量流量控制器 （MFC）
真空監測系統：皮拉尼真空計0-1托
控制器系統：微處理器系統，配備觸摸屏界面
工藝程序存儲功能：可存儲多達20個雙步驟程序
真空泵浦系統：29CFM氧氣服務真空泵系統，配備3微米真空泵油濾芯

可選配置
靜電屏蔽；
等離子工藝溫度控制；
600瓦@13.56MHz射頻電源;自動匹配器網絡； 
59 CFM氧氣服務真空泵系統；
自動兩點氮氣吹掃系統，延長真空泵使用壽命；
信號燈塔、 MKS自動真空節氣門控制器
另外2套質量流量控制器（共3套）
軟件可選5路工藝氣體輸入切換矩陣控制
可控N2（氮氣）真空艙吹掃流量
真空泵排氣口配備油霧凝聚式過濾器；
定制真空艙尺寸和配置
定制電極的大小和配置
RIE（反應離子刻蝕電極）配置

其它可選配置
填充床煙氣洗滌器
壓縮空氣干燥機，用于真空泵吹掃供氣

規格
電源：220 VAC/1/50Hz，30A
系統重量（/真空泵）160/85公斤
外部尺寸：92cm X  92cm X 81cm
真空泵外部尺寸：41cm X  81cm X 51cm

設備外部安裝要求
電源：380/3/50 Hz
壓縮空氣：0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
工藝氣體壓力：0.1~0.2MPa,
系統環境溫度：29攝氏度

如果您對GIK感興趣，請索取更詳盡資料！