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PhableR 100 紫外光刻機

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  自1999年成立以來,北京匯德信科技有限公司始終秉承“誠信、專業、創新”的宗旨,將上*的納米科學技術設備引進到國內。我們與德國亞琛工業大學、德國明斯特大學、德國斯圖加特大學、德國卡爾斯魯爾納米中心及德國Max-Planck研究所等科研院所有著緊密的合作,并系統地代理了德國Raith(電子束光刻系統)、Novocontrol(寬頻介電阻抗譜儀)、荷蘭TSST(脈沖激光沉積系統)等多家*產品。產品覆蓋了微納米制造、檢測、分析等相關領域。產品已經被國內眾多科研院所和大學使用,并得到用戶*好評和認可。

 

  作為幾十家的國內*代理,匯德信已建立起以客戶為中心,為客戶解決科研需求的銷售團隊和專業的技術支持隊伍。公司不定期地組織技術人員出國培訓,提升技術水平,更好地為客戶提供技術解決方案。

 

  我們經過多年的技術積累,并與國內用戶、國外廠商緊密合作,共同研發具有獨立知識產權的高科技含量的科研儀器。從“代理”產品走向 “研發”產品,邁出了具有重大意義的一步。2014年我們在常州建立了常州雷歐儀器有限公司,致力于開發研制符合國內用戶需求的高品質、高性價比的薄膜沉積設備。

 

  我們本著將上*的科技和企業引進到國內的理念,在德國對華經濟技術合作中心(IWC)、江蘇省政府、德國北威州共同努力下,在江蘇省常州市創建了江蘇中德創新中心有限公司,中心憑借*理念和掌握大量的德國*和企業資源,重點抓住“中德合作”和“創新”這兩個主軸,確保實現:知識轉化為技術;實驗室走向市場;技術變為產品;科技人才成為創業者。

分子束外延系統,脈沖激光沉積系統,電子束光刻/聚焦離子束系統,紫外光刻機,去膠機,寬頻介電阻抗譜儀,三維表面形貌儀,納米壓印模板,光刻膠等

瑞士Eulitha紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統,但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似,涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵(六角形和正方形),且曝光結果非常均勻,質量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

特點:

 

  • 可達到步進光刻機的高分辨率
  • 操作簡單性與紫外曝光機相同
  • 光子圖形化的低成本解決方案

 

優勢

 

  • 高分辨率(低于300nm pitch)
  • 全場曝光
  • 非接觸式:防止掩膜受損及被污染
  • 焦深幾乎沒有限制
  • 表面不平的襯底也適用(如外延片)
  • 均勻性高
  • 具有套刻對準能力
  • 商業化的可獲得的光刻膠和材料都適用
  • 使用傳統的掩膜板(玻璃上鍍鉻)
  • 頻率倍增

 

PhableR 100革新性紫外光刻機

 

PhableR 100 應用:

 

  • LED光萃取層
  • 藍寶石襯底圖形化(PSS)
  • 磁性納米結構
  • 減反射圖形
  • 太陽能光伏
  • 電通訊光柵
  • 光譜儀光柵
  • 等離子圖案
  • 編碼器標尺
  • 濾色鏡
  • 生物傳感器

 

更多瑞士Eulitha介紹,請查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=476

 



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