結構分析場發射掃描電鏡/ ULTRA系列掃描電鏡ULTRA綜合采用了用于形貌成像的GEMINI® In-len二次電子探測器、用于清晰的組分襯度的EsB探測器和用于采集晶體通道信息的AsB探測器。同步的實時成像與信號混合功能提供了*的成像能力。 
EsB探測器包含有一個過濾柵網，通過它可實現高分辨率背散射電子成像，讓以前無法看見的細節歷歷在目。
卡爾.蔡司*的荷電補償功能在使用所有探測器時，都可以分析非導電樣品 

? 低加速電壓時的超高分辨率二次電子和背散射電子成像 
? 用于在納米尺度上實現組分襯度成像的高效EsB / AsB探測器 
? 精確控制的超大自動優中心（eucentric）樣品臺 
? 背散射電子和二次電子信號的實時成像與混合功能 
? 抑制不導電樣品的荷電效應 
? 用于X射線分析和背散射電子衍射（EBSD）應用的超穩定束流模式

結構分析場發射掃描電鏡/ ULTRA系列掃描電鏡技術參數：

ULTRA 55SE

成像與測量工作站

主要特點：

ULTRA——*的成像工具

看得更多——超高分辨率的SE與BSE同步成像 
看得更清——精確的*成像能力 
看得更細——納米尺度上進行組分分析的利器 
簡便易用——全面集成的鏡筒內置式背散射電子探測器（EsB）和二次電子探測器（In-lens     detector） 
遠離荷電——Ultra plus中安裝有荷電補償器，實現了不導電樣品的清晰、精確成像