光刻機，鍍膜機，磁控濺射鍍膜儀，電子束蒸發鍍膜儀，開爾文探針系統(功函數測量)，氣溶膠設備，氣溶膠粒徑譜儀，等離子增強氣相沉積系統(PECVD)，原子層沉積系統(ALD)，快速退火爐，氣溶膠發生器，稀釋器，濾料測試系統
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 氣溶膠發生器 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,生物產業,綜合 |
AGK2000-鹽霧氣溶膠發生器-德國設備
懸浮液、溶液和生物制劑中固體顆粒的生成。
圖1:AGK 2000帶垂直或彎曲干燥段
懸浮液（例如使用生物制劑）和溶液（例如NaCl和KCl）產生的固體顆粒氣溶膠需要在研究、開發和質量保證中大量應用。在各種標準中，NaCl/KCl氣溶膠或由生物制劑生產的氣溶膠規定為試驗氣溶膠，以保證過濾介質、測量設備和過濾器的可比性。測試氣溶膠必須在測試時間段內在粒徑分布和顆粒濃度方面始終如一地產生。此外，必須能夠重復地產生粒度分布和濃度。特別開發的噴嘴通過防止噴嘴出口處的鹽晶體結晶來確保滿足這些要求。因此，根據溶液的濃度，可以在約5 nm到15μm的范圍內重復地調整粒度光譜。AGK 2000可用于直柱或曲柱干燥，可選耐壓高達10巴。
鹽霧氣溶膠發生器-德國設備
功能
為了分散液體、懸浮液和溶液，通常使用兩種物質噴嘴。對于鹽溶液的分散，傳統的霧化方法，如Collison霧化器（也由Palas®制造）并不特別適合，因為鹽晶體在噴嘴出口處沉淀并導致噴嘴系統的部分阻塞。
圖2:AGK 2000旋風分離器原理圖
由Palas®開發的特殊噴嘴可實現鹽溶液的霧化，具有*的劑量恒定性。
測量數據
顆粒分布與溶液濃度的相關性（圖。3和4）。測量設備：來自Palas®的welas®數字系統。
圖3:20%KCl溶液和0.15kcl溶液基于體積的積分分布的表示
圖4:20%KCl溶液的個數-粒徑分布的表示
優勢
良好的短期和長期氣溶膠穩定性
可調粒徑寬范圍
儲液罐易加注
大型儲液罐（500 cm3）
堅固的設計，工業應用證明
操作簡單
功能可靠，重現性高
幾乎不需要維護
降低運營成本
參數表
流量 | 3 – 10 l/min |
重量 | 約 3 kg |
氣溶膠材質 | 懸浮液中的NaCl、KCl、生物制劑和其他顆粒 |
持續時間 | 不間斷數小時 |
最大粒子數濃度 | ca. 107 particles/cm3 |
粒徑范圍 | 0.005 – 15 µm |
載氣/分散氣 | 隨機（一般為空氣） |
預壓力 | 4 – 8 bar |
壓縮空氣連接 | Quick coupling |
氣溶膠出口連接 | ?inside = 20 mm, ?outside = 30 |
流量（附件 | 6 – 20 l/min (干燥管) |
填充量 | 300 ml |
應用范圍
過濾行業：
-汽車內部過濾器
-ASHRAE房間空氣過濾器
-發動機空氣濾清器
-呼吸過濾器
化學制藥工業
示蹤粒子的產生
流動可視化
氣溶膠研究
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