CHI760E電化學工作站，可同時控制同一電解池中的兩個工作電極的電位，其典型應用是旋轉環盤電極，也能被用于其它需要雙工作電極的情況下。

CHI760E電化學工作站特點

· 自動或手動iR降補償

· 電流測量偏置：滿量程，16位分辨，0.003%準確度

· 電位測量偏置：±10V，16位分辨，0.003%準確度

· 外部電位輸入

· 電位和電流的模擬輸出

· 可控電位濾波器的截止頻率：1.5MHz,150KHz,15KHz,1.5KHz,150Hz,15Hz,1.5Hz, 0.15Hz

· 可控信號濾波器的截止頻率：1.5MHz,150KHz,15KHz,1.5KHz,150Hz,15Hz,1.5Hz, 0.15Hz

· 旋轉電極控制電壓輸出（CHI630E以上型號）：

0-10V對用于0-10000rpm的轉速，16位分辨，0.003%準確度，需要某些旋轉電極裝置才能工作

· 通過宏命令可以控制數字輸入輸出線

· 內閃存儲器可迅速更新程序

· 串行口或USB口數據通訊

· 電解池控制：通氮，攪拌，敲擊（需要特殊電解池系統）

· CV數字模擬器和擬合器。用戶定義反應機理 （CHI630E以上）或預定義反應機理（其他型號）

· 交流阻抗模擬器和擬合器（具有交流阻抗測量功能的型號）

· 大數據長度：256K-16384K可選