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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備> PECVD

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PECVD

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 合肥康帕因設備技術有限公司是應材料界老客戶呼吁而成立的專業(yè)致力于材料制備、真空鍍膜、真空檢測、等離子清洗、鍍膜等設備的研發(fā)、生產型企業(yè)。公司擁有過硬的技術團隊,可在材料研究、真空檢漏、真空鍍膜、等離子清洗等領域為您排憂解難。
CPI 技術力量來源于材料類工業(yè)生產設備要求,以及與國外同行業(yè)間的技術合作,產品設計*,注重細節(jié),質量可靠,售后無憂。CPI設備廣泛應用于新能源材料,金屬材料,磁性材料,半導體材料,陶瓷材料,電化學,薄膜材料,CVD,PECVD ,石墨烯,碳納米管,碳納米線,光學材料,齒科等研究領域。
CPI將工業(yè)生產設備技術要求應用于實驗設備,設備性能更加穩(wěn)定可靠,工藝重復性強。
CPI的理念是以客戶為根本(customer),以人才為基礎(personnel),以創(chuàng)新求發(fā)展(innovation)。我們將秉承這一理念,為每一個客戶提供全套方案!
CPI企業(yè)文化:厚德載物,自強不息。以人為本,敬職敬業(yè)。
CPI經營理念:誠信務實,創(chuàng)新致遠。品質*,服務至上。




熱處理設備,高溫爐、CVD/PECVD、真空系統(tǒng)、晶體、耗材等

  PECVD化學氣相沉積設備質量流量控制系統(tǒng)一款多路質量流量計控制系統(tǒng),其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時,可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。
 
  工作溫度:5~45?C
 
  zui大壓力:3x106 Pa
 
  精度: ±1.5% FS
 
  線性:±(0.5-1.5)%F.S
 
  重復精度: ±0.2%F.S.
 
  流量范圍:
 
  一路:1~199 SCCM
 
  二路:1~499 SCCM
 
  PECVD注意:其他流量范圍的可定制,需額外費用
 
  化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一款實驗室常用設備技術參數(shù)


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