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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>其它實驗室設備>nRad nTact狹縫涂布機

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nRad nTact狹縫涂布機

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌
  • 型號 nRad
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/7/1 20:03:44
  • 訪問次數 5988

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半導體化工領域專業實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創新精神的高科技公司,專業提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優質專業的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協助他們實現高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

產地類別 進口 應用領域 電子/電池

高效的材料利用率和少的浪費

基于槽模的沉積技術

涂布厚度范圍:從20nm100μm

均勻度為 ±3%,

效率高/材料利用率高:材料利用率可達95%

從研發到小批量試制、大量生產滿足不同需求

支持各種基材(剛性或柔韌性、玻璃、塑料、金屬箔、硅片)

適用于各種應用(平板顯示器、觸摸屏、光伏(薄膜和硅)、柔性電子產品、光學薄膜)

 

研發體系中的性能和價值

專有設計在小型封裝中提供可靠的性能

簡單而靈活的設計和操作,能夠為各種應用沉積各種材料

緊湊型系統與大多數標準手套箱和實驗室臺面兼容

全自動涂層工藝通過配方可編程參數控制

線性伺服電機驅動的空氣軸承級確保平穩運行和準確的涂層

用戶友好的控制與板載觸摸屏和基于PC的軟件

極低的填充量非常適合測試小樣本材料

可編程涂層間隙(微米分辨率)測量并調整每個處理的基板

可編程的引發步驟,以在沉積在基板上之前立即建立涂層珠

流程優勢

槽模涂布技術使涂布液的利用率大化,而不會產生與替代方法相關的浪費

有效利用材料可大限度地減少對環境的影響和處置

該過程適用于開發應用程序,可擴展到更大的生產規模

精確,可編程控制涂層間隙和模具運動輪廓,提供高度均勻的涂層和出色的涂層邊緣輪廓控制

有效可調涂布速度0-2m / min

 

 

 



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