Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品介紹：

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀利用光譜反射原理，可以測(cè)量厚度達(dá)到3毫米的眾多半導(dǎo)體及介電層薄膜。相對(duì)于較薄的膜層，這種厚膜的表面較粗糙且不均勻，F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測(cè)量光斑，從而可以容易地測(cè)量其他膜厚測(cè)量?jī)x器不能測(cè)量的膜層，并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測(cè)量、護(hù)涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品特點(diǎn)優(yōu)勢(shì)：

• 非接觸測(cè)量：避免損傷薄膜，適用于脆弱或敏感材料；

• 多場(chǎng)景適用性：基本上光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測(cè)量。

• 測(cè)量速度快：配置完成后，數(shù)秒內(nèi)即可完成測(cè)量。

• 采用近紅外光(NIR)來(lái)測(cè)量膜層厚度，因此可以測(cè)試一些肉眼看是不透明的膜層

• 配件包括自動(dòng)繪圖平臺(tái)、測(cè)量點(diǎn)可視化攝像機(jī)，和可見(jiàn)光擴(kuò)展波段選項(xiàng)

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品測(cè)量原理：

當(dāng)入射光穿透不同物質(zhì)的界面時(shí)將會(huì)有部分的光被反射，由于光的波動(dòng)性導(dǎo)致從多個(gè)界面的反射光彼此干涉，從而使反射光的多波長(zhǎng)光譜產(chǎn)生震蕩的現(xiàn)象。從光譜的震蕩頻率，可以判斷不同界面的距離進(jìn)而得到材料的厚度（越多的震蕩代表越大的厚度），同時(shí)也能得到其他的材料特性如折射率與粗糙度。

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)應(yīng)用與膜層范例：

• 薄膜特性：厚度、反射率、透射率、光學(xué)常數(shù)、均勻性、刻蝕量等

• 薄膜種類(lèi)：透明及半透明薄膜，常見(jiàn)如氧化物、聚合物甚至空氣

• 薄膜狀態(tài)：固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)薄膜都可以測(cè)量

• 薄膜結(jié)構(gòu)：單層膜、多層膜；平面、曲面

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品常見(jiàn)工業(yè)應(yīng)用：

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品參數(shù)：

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀測(cè)量圖：