NanoX-2000/3000系列、3D光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。

  產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

美國(guó)硅谷研發(fā)的核心技術(shù)和系統(tǒng)軟件

  關(guān)鍵硬件采用美國(guó)、德國(guó)、日本等

  PI納米移動(dòng)平臺(tái)及控制系統(tǒng)

  Nikon干涉物鏡

  NI信號(hào)控制板和Labview64 控制軟件

  TMC光學(xué)隔振臺(tái)

  測(cè)量準(zhǔn)確度重復(fù)性達(dá)到shijie*水平(中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院證書(shū))

輪廓儀——表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度測(cè)量參數(shù)

產(chǎn)品參數(shù)：

n  測(cè)量模式        移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）

n  樣 品 臺(tái)        150mm/200mm/300mm樣品臺(tái)（可選配）

                    XY平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°

                    可選手動(dòng)/電動(dòng)樣品臺(tái)

n  CCD相機(jī)像素    標(biāo)配：1280×960

n  視場(chǎng)范圍        560×750um（10×物鏡）

                    具體視場(chǎng)范圍取決于所配物鏡及CCD相機(jī)

n  光學(xué)系統(tǒng)        同軸照明無(wú)限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)

n  光    源        高效LED

n  Z方向聚焦      80mm手動(dòng)聚焦（可選電動(dòng)聚焦）

       n  Z方向掃描范圍  精密PZT掃描(可選擇高精密機(jī)械掃描，拓展達(dá)10mm )

n  縱向分辨率      ＜0.1nm

n  RMS重復(fù)性*     0.005nm，1σ

n  臺(tái)階測(cè)量**              準(zhǔn)確度 ≤0.75％；重復(fù)性 ≤0.1%，1σ

n  橫向分辨率              ≥0.35um（100倍物鏡）

n  檢測(cè)速度                   ≤ 35um/sec , 與所選的CCD和掃描模式有關(guān)

輪廓儀——表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度測(cè)量應(yīng)用