應用領域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業中的各種分析。

檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

主要技術參數：光學系統：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；

              波長范圍：170nm~580nm

              焦距：400mm

              探測器：高性能CCD陣列

              光源類型：數字光源，高能預燃技術（HEPS）

              放電頻率：100-1000Hz

              放電電流：大400A

              工作電源：220VAC 50/60Hz

              儀器尺寸：720*860*500

              儀器重量：約100kg（不含真空系統）

              檢測時間：依據樣品類型而定，一般25S左右

                           電極：鎢材噴射電  

                                                       光學恒溫：34℃± 0.3℃

              氬氣要求：99.999％

              氬氣進口壓力：0.5MPa

              氬氣流量：激發流量約3.5L/min

              工作溫度：10℃～35℃

              工作濕度：20％～85％

              分析間隙：真空軟件自動控制、監測