一. Alpha-Step臺階儀設(shè)備特點

• 臺階高度：幾納米至1000μm(D500 至1200μm）

• 低觸力：0.03至15mg

• 視頻：500萬像素率彩色攝像頭

• 梯形失真校正：消除側(cè)視光學系統(tǒng)引起的失真

• 圓弧校正：消除由于探針的弧形運動引起的誤差

• 緊湊尺寸：小占地面積的臺式探針式輪廓儀

   主要應(yīng)用

• 臺階高度：2D臺階高度

• 紋理：2D粗糙度和波紋度

• 形式：2D翹曲和形狀

• 應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力

   應(yīng)用領(lǐng)域

    大學，研究實驗室和研究所

• 半導體和復(fù)合半導體

• SIMS：二次離子質(zhì)譜

• LED：發(fā)光二極管

• 太陽能

• MEMS：微電子機械系統(tǒng)

• 汽車

• 醫(yī)療設(shè)備

二. Alpha-Step臺階儀應(yīng)用案例

臺階高度

  Alpha-Step D-300 探針式輪廓儀能夠測量從幾個納米到1000μm的2D臺階高度（D-500則是幾納米到1200微米）。 這使其可以量化在蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP 和其他工藝期間沉積或去除的材料。 Alpha-Step系列具有低觸力功能，可以測量如光刻膠的軟性材料。

紋理：粗糙度和波紋度

  Alpha-Step D-300/500 測量 2D 紋理，量化樣品的粗糙度和波紋度。 軟件過濾功能將測量值分離為粗糙度和波紋度的部分，并計算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數(shù)。

外形：翹曲和形狀

   Alpha-Step D-300/500可以測量表面的2D形狀或翹曲。 這包括對晶圓翹曲的測量，例如在半導體或化合物半導體器件生產(chǎn)過程中，多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配是導致這類翹曲產(chǎn)生的原因。Alpha-Step還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。

應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力

  Alpha-Step D-300/500能夠測量在生產(chǎn)包含多個工藝層的半導體或化合物半導體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。 使用應(yīng)力卡盤將樣品支撐在中性位置精確測量樣品翹曲。 然后通過應(yīng)用Stoney方程，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計算應(yīng)力。