氦氣和氮氣純化器

載氣的純化在靈敏度要求高的任何應(yīng)用中都是要存在的，不純氣體會影響檢測器的靈敏度，甚至損壞毛細(xì)柱。氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將 Ne、Ar、Kr 和Xe 中的 ppm 級以下的不純氣體純化。

氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣。 氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金， 此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子 表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調(diào)控的特征設(shè)計，它保持吸附劑材料于最適溫度，消除了熱量流失的可能性。

氦氣純化器

z 可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn  

z 最高操作壓強(qiáng)：1000 psig

z 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于 10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和 CH4，此基于 10ppm 入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括 CF4、CCl4、SiH4和輕質(zhì)烴。

z 未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

氮氣純化器

z 可純化氣體：只有 N2

z 最高操作壓強(qiáng)：1000 psig  

z 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于 10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和 CH4，此基于 10ppm 入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括 CF4、CCl4、SiH4和輕質(zhì)烴。

z 未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2

注意事項：

警告

此產(chǎn)品不能用于氧氣——純氧氣或含大量氧氣組分的其他氣體。凈化器的吸氣合金在操作溫度下可自燃。使用大量氧氣會引起材料爆炸，可能損壞周圍區(qū)域，或造成人員傷害。

在任何情況下，無論基于合同、侵權(quán)或任何其他法律概念，不論被告是否了解這類損壞的可能性，Valco 儀器公司對任何直接、間接、特殊的、偶然的或間接的損壞將不予負(fù)責(zé)。