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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>干法工藝設備>等離子體刻蝕設備>SPB5/plus RIE反應離子刻蝕機

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SPB5/plus RIE反應離子刻蝕機

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企業歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。

◆ 2008 年, 自主研發生產石墨電熱板以來, 先后研發生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備, 從此走上研發生產專業化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術,自主研發生產科研型等離子清洗機系列產品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設備研發、制造業務移至中國。

◆ 2015 年,自主研發生產專為處理粉體樣品而設計轉瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發生產紫外臭氧清洗機系列產品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發制造業務全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發成功。

◆ 2021 年,自主研發生產中試、生產型等離子清洗系列產品,完善了等離子產品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發成功。


公司專注材料表面處理技術:

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業愿景:

致力于為全球用戶提供專業的表面處理整體解決方案。

企業使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業伙伴在內的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發展,共同成就夢想!


半導體領域儀器設備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機,采用 RIE 反應離子誘導激發方式,實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。
具體包括:
◆ 介電材料(SiO2、SiNx 等)
◆ 硅基材料(Si,a-Si,poly Si)
◆  III-V 材料(GaAs、InP、GaN 等)
◆ 濺射金屬(Au、Pt、Ti、Ta、W 等)
◆ 類金剛石(DLC)
 應用領域:

RIE反應離子刻蝕機主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學、通訊等領域的器件研發和制造。

產品特點

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面,自動控制監測工藝參數狀態,20 個配方程序,工藝數據可存儲追溯。

◆  PLC 工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

◆  真空艙體、全真空管路系統采用 316 不銹鋼材質,耐腐蝕無污染。

◆  采用防腐數字流量計,  實現對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統, 可選多氣路氣體輸送系統, 可輸入氧氣、氬氣、 氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。

◆  采用花灑式多孔進氣方式,改變單孔進氣不均勻問題。

◆  HEPA 高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

◆  符合人體功能學的 60 度傾角操作界面設計,操作方便,界面友好。

◆  采用頂置真空艙,上開蓋設計,下壓式鉸鏈開關方式。

◆  上置式 360 度水平取放樣品設計,符合人體功能學,操作更方便。

◆  有效處理面積大,可處理最大直徑 154mm 晶元硅片。

◆  安全保護,艙門打開,自動關閉電源,機器運行、停止提示。


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