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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法腐蝕/刻蝕設備>NMC 508系列 CCP介質刻蝕機

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NMC 508系列 CCP介質刻蝕機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

NMC 508系列 CCP介質刻蝕機,多頻解耦設計,實現優異的均勻性及高深寬比介質刻蝕。

2. 設備用途/原理

NMC 508系列 CCP介質刻蝕機多頻解耦設計,實現優異的均勻性及高深寬比介質刻蝕應用域廣泛,涵蓋Si power、SiC Power、GaN Power、MEMS、硅光等工藝種類覆蓋道HM刻蝕、CT刻蝕、Spacer刻蝕,后道Via刻蝕、PAD刻蝕靈活的系統配置,適合研發、中試線、大規模生產線的不同應用采用Clean Mode量產,道、后道均可實現優異的量產穩定性及更高的MTBC

3. 設備特點

晶圓尺寸 6/8 英寸兼容適用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅適用工藝 鈍化層刻蝕、硬掩膜刻蝕、接觸孔刻蝕、導線孔刻蝕、側襯刻蝕、回刻、自對準刻蝕適用域 科研、集成電路、化合物半導體



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