KS-S300-E 單片濕法刻蝕機

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產品標簽

濕法刻蝕

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公司介紹 主營產品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

1. 產品概述

滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。

2. 產品優勢

利用位置、速度可控的擺臂噴灑化學液，可以有效的提高刻蝕均勻性
分層式反應腔體設計，可以在同一腔體中噴灑多種化學液，并能有效回收，節約化學液
疊層控制，占地面積小，多可配置4個刻蝕單元

3. 應用域：

半導體制造中濕法刻蝕工藝
封裝域中金屬層刻蝕，滿足UBM及RDL工藝要求
OLED 域中金屬及金屬氧化物（ITO/IGZO）刻蝕、緩沖層成膜的表面（SiO2）刻蝕清洗等工藝

滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。