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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>干法工藝設備>等離子體刻蝕設備>Kessel® Pishow® M 8英寸金屬刻蝕設備

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Kessel® Pishow® M 8英寸金屬刻蝕設備

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金屬刻蝕

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 系統特性

Kessel® Pishow® M 金屬刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產型設備

設備由電感耦合等離子體刻蝕腔(ICP etch chamber)、去膠腔(stripchamber)、冷卻腔(cooling chamber)、傳輸模塊(transfer module)構成適用于0.11微米及其它技術代的鋁墊刻蝕及鎢回刻(W Recess)工藝也可換用6英寸ESC

2. 工藝數據

鋁墊刻蝕

鋁線工藝

鎢塞刻蝕 

3. 詳細介紹

Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺,基于自有開發的優化設計,保證了優異的刻蝕均勻性(片內<8%,片間<5%)和顆粒控制。在4微米厚鋁刻蝕工藝中,可以提供8000片/月的產能。

該設備高性價比的解決方案和優秀的空間利用率,可為客戶產能升提供幫助。


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