1. 靈活的沉積平臺服務于廣泛的應用

Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積（PVD）系統，為各類薄膜沉積應用提供了極大的靈活性和多功能性，使其在當今快速發展的技術環境中脫穎而出。無論是在半導體、光電子材料、顯示技術還是其他高科技領域，NEXUS PVD 都能夠滿足客戶的多樣化需求。

該系統的加工精度高達 200 毫米，不僅保證了沉積過程的精確控制，還使得它能夠支持多種不同的工藝需求。NEXUS PVD 的先進工藝能力，結合=均勻性，確保了每一層沉積膜的質量和性能都達到行業水平。這種優質的性能在提高整體工藝產量方面發揮了關鍵作用，用戶能夠以更高的良率實現高效生產。

此外，NEXUS PVD 平臺彰顯了出色的吞吐量和正常運行時間，顯著降低了設備的擁有成本。這意味著客戶可以在保持高產量的同時，減少維護和運營成本，進一步提升投資回報率。

2. NEXUS 平臺還集成了 Veeco 多項技術

包括離子束沉積、離子束蝕刻和原子層沉積（ALD），使得該系統具備處理多種沉積需求的能力。離子束沉積能夠實現高質量薄膜的沉積，適合于對膜厚均勻性和膜缺陷有嚴格要求的應用；而離子束蝕刻技術則用于精細圖案的刻制，更好地滿足高精度集成電路制造的需要。原子層沉積技術則在沉積極薄膜方面表現，適用于高技術含量的光電材料、傳感器及其他前沿科技領域。

Veeco 的 NEXUS PVDi 系統通過其頂尖的靈活性、可靠性和高效性，為廣泛的薄膜沉積應用提供了解決方案，幫助客戶在競爭激烈的市場中保持地位。無論是從技術創新還是經濟效益來看，NEXUS PVDi 系統都為用戶創造了巨大的增值潛力。