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RIE系列 離子刻蝕機(褪膜設備)

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安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創業團隊于2014年創立的高科技公司,坐落于合肥市蜀山區大別山路1599號。主要從事真空納米、微米級鍍膜裝備的設計、研發和制造;并提供多種功能膜層的工藝開發和鍍膜加工服務。

公司目前擁有設計、研發、工藝、市場和生產等各方面的專業型人才。在陰極弧(Cathode Arc)、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積(CVD)等領域都掌握了核心技術;特別是公司自主設計、研發、制造的純離子鍍膜設備(Pure Ion Coating Equipment)能夠制備出性能*的類金剛石膜、金屬膜、金屬化合物膜等。

鍍膜設備有:純離子鍍膜設備系列、多元化高致密金屬鍍膜設備系列、高精模具鍍膜設備系列、磁控濺射設備系列、高真空精密光學薄膜鍍膜設備系列、反應離子刻蝕系列等。

膜層系列有: Ta-C、DLC、氮化物膜(TiN、CrN、AlCrN等)、碳化物膜(CrC、WC等)、高致密金屬/合金膜和光學膜層(減反膜、濾光膜、高反膜、紅外膜等)等。

公司裝備及膜層廣泛應用于交通工具、切削工具、消費電子、紡織機械、醫療、新能源和科研等行業。




PVD真空鍍膜設備、高致密金屬鍍膜設備、磁控濺射設備、多弧磁過濾鍍膜、類金剛石涂層、碳氮氧化物加工服務

應用領域 化工,能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,航空航天

RIE系列離子刻蝕機(褪膜設備)

一、主要特點:

1、離子刻蝕機(褪膜設備)能夠以超低清洗溫度,滿足不同場合溫度要求,不對清洗產品造成溫度影響;

2、旋轉裝置為行星旋轉機構、具鍍膜工藝不同,設計為:變頻調速,公轉式、公自轉結合式。采用氣動門鉸,自動鎖門,減少操作程序,增強真空門整體的密閉性及減少對橡膠密封圈的破壞性;

3、高真空度真空腔體設計及制造工藝,配置進口真空泵(分子泵),用戶可據自己的需求,隨時升級為多功能鍍膜設備;

4、設備采用高壓激勵電路技術,產生高密度等離子體,確保出眾的清洗效果;

5、放電技術:特殊處理及特殊結構的放電裝置,確保形成穩定均勻的等離子體;

6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,實現邏輯全自動控制;

7、報警及保護:全面安全防護包括:溫度安全防護功能、過載防護功能、短路斷路報警防護功能,各種誤操作保護功能。異常情況進行報警,并執行相應保護措施。


二、技術優勢:

1、物質的微結構表面會粘附各種各樣的氣體分子、微小顆粒、氧化物雜質等,統稱為粘附物,這些粘附物屬于微觀粒子,宏觀的清洗方式不能清除它們;

2、這些微觀粘附物會對納米級膜層產生諸多不利影響,影響膜層的結合力、清潔度、光澤、致密度等;

3、離子束刻蝕清洗源可以在真空條件下產生高能氬等離子體,轟擊被鍍工件表面;它不僅可以消除表面粘附物,還能“刻蝕”物質表面氧化物,從而得到“新鮮”物質表面,可以極大地提高薄膜的結合力,并提高膜層純度;

4、離子束清洗工藝通常運行在膜層沉積之前。 清洗各種形狀復雜的產品,包括內孔內壁、均勻清洗;

5、設計更緊湊合理、美觀;離子束更穩定;工作功率范圍更寬;清洗刻蝕效率更高;刻蝕均勻性更好;性能可靠,操作維修簡單方便;產品系列更完整;

6、應用領域,可以為如下行業的鍍膜提供表面清洗預處理:3C消費電子、電子元器件、光學、 交通工具、刀具模具、家電、新能源、醫療、科研等行業。


三、設備參數:


型號RIE2501-2
腔室尺寸470*300*245(mm)
離子源類型陽極層離子源
極限真空<5.0*10-4Pa
備注設備可根據客戶需求進行定制








四、應用領域

1、可褪碳基薄膜,可作為DLC/TAC薄膜的褪膜機使用;

2、可應用在:3C消費電子、電子元器件、光學、交通工具、刀具模具、家電、新能源、醫療、科研等行業。


注明:以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室-檢測結果






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