托托科技 無掩模光刻機，以其革命性的技術革新，為微電子、集成電路等制造領域帶來了靈活性和高效率。無論是在科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等眾多領域，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案。

激光直寫光刻技術與DMD無掩模光刻技術

激光直寫技術通過激光束直接在材料表面進行高精度加工，而DMD無掩模技術通過數(shù)字微鏡陣列投影光束進行圖案化加工，適用于大面積光刻。

DMD無掩模光刻技術路線介紹

基本原理：DMD技術利用數(shù)字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來控制微鏡的角度，從而通過投影系統(tǒng)在材料表面快速形成圖像或光刻圖案 。這些微鏡根據(jù)電信號的控制會精確調節(jié)反射角度，將激光或光源投射到特定位置。

系統(tǒng)組成：基于DMD的無掩模光刻系統(tǒng)通常由光源模組、勻光模組、DMD模組、投影模組、運動臺模組和軟件等幾大部分構成，這些模組高效、精準的協(xié)同工作，實現(xiàn)了高分辨率圖案的快速無掩模光刻。

工作流程：上位機的發(fā)送圖形數(shù)據(jù)到DMD模組，DMD顯示對應的圖形，經(jīng)由DMD反射的光攜帶著圖形信息，并經(jīng)過一系列光學元件后照射到基片上，實現(xiàn)了圖形的轉移。高精度運動平臺的協(xié)同工作，確保不同曝光區(qū)域的精準拼接, 最終實現(xiàn)大型、復雜圖案的動態(tài)曝光。

核心功能

靈活設計無需掩模版

與傳統(tǒng)的有掩模光刻相比，無掩模光刻機更加靈活便捷，省去了制版的時間和金錢成本，幫助您快速驗證想法

加工精度可達400 nm

加工精度1 μm可以滿足大多數(shù)加工需求，針對精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達400 nm的產(chǎn)品供您選擇

速度高達1200 mm²/min

對于大尺寸樣品的加工來說，效率變得尤為重要，我們將為您供高速高精度的設備來滿足您的需求

加工幅面可達2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用戶，我們可提供加工幅面達2 m² 的產(chǎn)品來滿足您的需求

灰度光刻可達4096階

4096階的灰度能力，能夠精準地在光刻材料上構建出具有高度復雜且細膩層次變化的微觀結構或圖案，為微納制造領域帶來工藝精度與豐富的設計可能性

托托科技 無掩模光刻機特色功能：

直接繪圖：直接繪圖為您提供靈活便捷的手段，以此來快速驗證您的想法

精準套刻：由綠光作為指引光為您提供光刻前的對準預覽，以此來實現(xiàn)精準套刻

陣列光刻：陣列光刻為您提供快速確認工藝參數(shù)的手段，以此來幫您節(jié)約時間

主動對焦：主動對焦為您提供光刻前的實時對準，以此來確保每次光刻聚焦清晰