高真空磁控濺射薄膜沉積系統--TRP450

真空室結構:圓筒形前開門

真空室尺寸:φ450x400mm

極限真空度:≤6.6E-6Pa

沉積源:永磁靶3套，2英寸，可以向上濺射或向下濺射。

樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，最高800C

占地面積(長x寬x高):約1米x1.8米x2米

電控描述:全自動

工藝:片內膜厚均勻性:≤3%

特色參數:

產品概述：
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。

設備用途：
可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

用戶評價：
TRP-450高真空鍍膜機其設備質量過關，功能齊全，性能穩定，自動化程度高，抽氣極速平穩，電源穩定可靠，氣路流暢密閉，鍍膜質量平整光滑，均勻致密，結合力強，且系統操控智能，便捷，可滿足科研實驗與生產制造的需求，是一款優秀的磁控濺射鍍膜系統。——北京石墨烯技術研究院有限公司 李老師