一、核心功能
旋涂加熱工作臺是半導(dǎo)體制造、光電顯示及新材料研發(fā)中用于均勻涂覆光刻膠、薄膜材料或?qū)щ妼拥年P(guān)鍵設(shè)備，集成高速旋涂與精準(zhǔn)溫控功能，適用于6-12英寸晶圓、玻璃基板及特殊基材的處理。

二、技術(shù)特點(diǎn)

高速旋涂系統(tǒng)

轉(zhuǎn)速范圍：0-10,000rpm（可調(diào)，精度±1%），支持勻膠、前烘、顯影后堅(jiān)膜等工藝。

真空吸附托盤（可選多尺寸適配），確保基片平整固定，避免滑移。

程序化控制（可存儲多組工藝參數(shù)），兼容不同膠體粘度與涂層厚度需求。

精準(zhǔn)溫控模塊

加熱溫度：常溫~250℃（PID閉環(huán)控制，穩(wěn)定性±0.5℃）。

快速升溫（30℃/min）與均勻加熱（熱盤均勻性±1℃），縮短工藝周期。

可選配冷卻功能（風(fēng)冷/水冷），適應(yīng)低溫敏感材料處理。

安全與兼容性

防腐蝕腔體設(shè)計(jì)（耐酸堿膠體），配備防爆濾網(wǎng)與緊急制動功能。

兼容光刻膠、PI液、金屬有機(jī)溶液等材料，適用于半導(dǎo)體前道、OLED封裝、MEMS器件制備等場景。

三、應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造：光刻膠旋涂、SOC芯片涂層處理、封裝TDF（封裝膠）涂覆。

光電顯示：OLED發(fā)光層/封裝膠旋涂、LCD光阻涂布。

科研實(shí)驗(yàn)：納米薄膜制備、鈣鈦礦電池功能層沉積、柔性電子材料研發(fā)。

四、優(yōu)勢亮點(diǎn)

高效均勻性：離心力場與真空吸附結(jié)合，實(shí)現(xiàn)納米級膜厚均勻性（CV≤3%）。

操作便捷：觸摸屏編程+遠(yuǎn)程控制接口（如RS-232/TCP），支持自動化產(chǎn)線集成。

低維護(hù)成本：模塊化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可快速更換托盤或升級溫控組件。