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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>Series 3000 LV 800/1000 派瑞林parylene真空鍍膜設備

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Series 3000 LV 800/1000 派瑞林parylene真空鍍膜設備

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌
  • 型號 Series 3000 LV 800/1000
  • 產地
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2025/7/1 15:32:38
  • 訪問次數 142

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那諾中國有限公司專注于為大中華區域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺灣)的高校、科研院所、企業研發與生產等企業機構提供高性能、高性價比、定制化的薄膜工藝加工設備及科學分析檢測儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時間的質譜儀,包含飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)、質子轉移反應(PTR)質譜儀、電子轟擊電離(EI)質譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機,PA-MOCVD,飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)

派瑞林parylene真空鍍膜設備Series 3000 LV 800/1000系統為派瑞淋涂覆系統,通過Parylene涂敷后的產品具有高度的絕緣強度、耐高低溫、抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防水、防潮、防銹、透明、抗老化、生物相容性等作用。


Parylene System Series 3000 LV 800/1000是一款模塊化設計的系統,主要由兩部分組成:腔室模塊與蒸發器模塊。我們眾多設備均采用此類模塊化設計,旨在確保系統的靈活性,從而能夠根據客戶需求對幾乎任何組件進行定制化調整。其中,“3000”代表產品系列,而“LV 800/1000”則用于標識機器腔室的尺寸規格。該尺寸設計主要取決于您單次運行中需要涂覆的基板尺寸及數量要求。  我們所提供的腔室最大容積可達 1000 升。此外,該系統標配等離子源,并可選配旋轉工作臺、加熱/冷卻臺以及多達 3 個質量流量控制器,以滿足不同氣體入口的需求。


派瑞林parylene真空鍍膜設備

派瑞林parylene真空鍍膜設備Series 3000 LV 800/1000

尺寸L:2600mm  W:960mm  H:1460mm
重量
450kg
腔體容量
800/1000 L
工藝腔體1150mm ? H:600mm (800 L)

1000mm ? H:1100mm(1000L)

等離子源
2.45GHz, 1200 W
氣路
1 路氣體通道(內置工藝腔室的氣體分配系統),最多可擴展至 3 路氣體通道。
冷卻系統
8L(機電式冷阱)
真空連接
DIN 63 ISO-KF
排氣
電磁式排氣閥
真空泵
抽速75m3/h
電氣連接
三相五線制,交流 50 Hz,電壓 400 V / 240 V,最大功率消耗 8.5 kW



我們提供的Parylene派瑞林真空鍍膜設備既有適用于科研領域的實驗型機型,也有適用于工業量產領域的工業機型。同時,我們也可以根據需求在真空腔體中集成等離子源,實現在沉積之前能夠對基材進行表面化處理,從而提高薄膜的粘附性。另外,我們也可以提供適用于超凈間使用的系統設計,在小占地面積下提供高性能技術,節約大量的超凈間占地空間。


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