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化拋機 化學拋光機

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合美半導體(北京)科技有限公司作為化合物半導體材料磨拋設備制造系統方案供應商,專注于高精密研磨和化學機械拋光機臺研制以及前沿工藝的開發。作為行業內的新興力量,我們一路追光,打破國外工藝技術壟斷,彌補工藝技術空白,在時代進步的浪潮中全力以赴!    

   

公司生產車間按現代化、智能化標準打造,布局合理、物料流轉高效。車間配備國際廠商設備與自主研發智能控制系統,如高精度研磨機研磨盤平整度誤差<2um。    

   

公司機臺廣泛應用于紅外、超寬禁帶等半導體材料磨拋領域。自主研發的第四代半導體材料高精度磨拋工藝,解決傳統工藝痛點,實現智能化、精細化管控,提升良品率與加工效率。    

   

員工團隊均為專業精英,嚴格遵循標準流程,保障設備品質。面對 5G、新能源汽車、航空航天等領域對半導體材料的旺盛需求。    

   



研磨機,拋光機,CMP,減薄機,粘片機,粘接蠟,去蠟液

【技術應用】

HSM-CPS系列機臺最典型的應用是以下材料等的末級化學腐蝕拋光:

? 用于紅外探測和其它器件的碲鋅鎘,銻化銦,碲鎘汞

? 有無微電路或其它器件結構的,薄的或超薄的Ⅲ-Ⅴ族,Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體材料

? 磷化銦,硫化鎘及類似的光電材料

HSM-CPS能理想的用于所有需要電子/光學級拋光的高標準應用,提供了晶體最小應力解決方法。

【設備說明】

      HSM-CPS化學拋光機是一個抗腐蝕化學拋光機,集成外圍通風柜,設計以提供一個成本有效的設備用于腐蝕性及正常危險化學拋光操作。系列機臺最典型的應用是以下材料等的末級化學腐蝕拋光:   

      HSM-CPS系列化學拋光機主要由聚丙烯,PVDF(聚偏氟乙稀)和其它抗腐蝕材料制成,適用于很多種強腐蝕化學拋光劑。它的萬向轉動機械裝置和所有的電力機械裝置都安放在下甲板之下。下甲板和驅動盤基底間的液封裝置能將工作區域隔開以防止腐蝕,驅動軸和下工作甲板間用一橡皮密封。通過前端裝有控制部分的活動面板可進入甲板下方區域。此區域有冷卻扇及適當的排風。

      機臺左手邊的工作甲板是結構上的標準組件,容易拆下進行清洗及進入甲板下的區域。標準的甲板配置和樣品容納夾具被設計用于容納樣品進行處理,樣品材料是固定在直徑83mm (3.27”)的玻璃襯底片上。根據客戶的特殊要求這些配置還可以進行更改。

      HSM-CPS系列化學拋光機根據工藝需求不同,配置有多種材質拋光盤,包括可以貼背膠拋光布的拋光盤。





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