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化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>光學顯微鏡>工具顯微鏡/測量顯微鏡> 奧林巴斯BX53M平場半復消色差物鏡

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奧林巴斯BX53M平場半復消色差物鏡

參考價 100000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 北京儀光科技有限公司
  • 品牌 OLYMPUS/奧林巴斯
  • 型號
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/7/28 11:26:15
  • 訪問次數 27

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  北京儀光科技,專注顯微形貌分析
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產地類別 進口 應用領域 綜合

奧林巴斯BX53M平場半復消色差物鏡

引言

在現代材料分析、金相研究以及半導體檢測等高精度科學領域中,顯微鏡技術的革新不斷推動著研究邊界的拓展。奧林巴斯BX53M反射明暗場顯微鏡,作為一款集先進光學設計與多功能成像系統于一體的研究級設備,憑借其技術參數和性能表現,成為了眾多科研工作者和工程師的得力助手。本文將從技術細節出發,深入剖析BX53M顯微鏡的核心參數,并展望其在不同領域的應用前景。

一、光學架構與照明技術

1.1 反射鏡體與光路優化

BX53M顯微鏡的反射鏡體(型號:BX53MRF-S)是光學系統的基石,其設計充分考慮了反射光觀察的需求。鏡體內部采用了精密的光路布局,確保光線能夠高效、準確地從光源傳輸至樣品表面,并反射回觀察系統。這種優化的光路設計不僅提高了成像的清晰度,還增強了系統的穩定性和耐用性。

1.2 LED光源的革新應用

BX53M顯微鏡配備了先進的LED反射光源(型號:BX3M-LEDR),這一選擇改變了傳統顯微鏡的照明方式。LED光源以其長壽命、低能耗和即開即用的特點,為顯微鏡提供了穩定且可控的照明條件。更重要的是,LED光源的色溫可調性使得研究人員能夠根據樣品的特性調整照明光譜,從而優化成像效果。在明暗場觀察中,LED光源的均勻照明和可調亮度對于形成清晰的明場背景和暗場樣品像至關重要。

1.3 反射光路與多功能觀察

BX53M顯微鏡的反射光路(型號:BX3M-RLA-S)支持明場和暗場兩種觀察模式,通過簡單的機械切換即可實現。這種多功能性使得顯微鏡能夠適應不同樣品的觀察需求,從透明的薄膜材料到不透明的金屬樣品,都能獲得高質量的成像效果。同時,高性能的手動物鏡轉盤(型號:U-D5BDRE)提供了快速、準確的物鏡更換能力,進一步增強了顯微鏡的靈活性和實用性。

二、物鏡技術與成像性能

2.1 平場半復消色差物鏡系列

BX53M顯微鏡的核心優勢之一在于其平場半復消色差明暗場物鏡系列。這一系列物鏡包括5X、10X、20X和50X四種倍率,每種物鏡都經過精心設計,以提供性能。平場設計確保了整個視場內的成像均勻性,而半復消色差技術則有效校正了色差,提高了圖像的色彩還原度。

5X物鏡:具有較長的工作距離(12mm)和適中的數值孔徑(0.15),適用于大范圍樣品的初步觀察。

10X物鏡:提供了更高的放大倍率和更好的分辨率(NA=0.3,WD=6.5mm),適合對樣品細節進行深入分析。

20X物鏡:進一步提高了分辨率(NA=0.45,WD=3mm),能夠清晰顯示樣品的微觀結構。

50X物鏡:作為該系列的最高倍率物鏡(NA=0.8,WD=1mm),提供了放大倍率和分辨率,適用于對樣品微觀缺陷和精細結構的超高倍率觀察。

2.2 物鏡的技術特點

平場半復消色差物鏡系列不僅具有高分辨率和良好的色差校正能力,還特別注重了景深控制和鍍膜技術。景深控制使得在不同焦平面上都能獲得清晰的圖像,而先進的鍍膜技術則提高了光線的透過率和抗反射能力,從而提升了成像的亮度和對比度。這些技術特點共同保證了BX53M顯微鏡在各種觀察條件下的性能。

三、成像系統與數據處理

3.1 高分辨率數碼攝像

BX53M顯微鏡配備了2000萬像素的工業級CMOS數碼攝像頭(20MP USB3.0),這一攝像頭以其高分辨率、低噪聲和快速數據傳輸能力而著稱。通過C型接口(U-TV1XC)與顯微鏡連接,攝像頭能夠實時捕捉樣品的清晰圖像,并支持視頻錄制功能。高分辨率的成像能力使得研究人員能夠觀察到樣品的細微結構,為后續的分析提供了豐富的數據支持。

3.2 影像測量軟件的強大功能

配套的影像測量軟件(Microsoftware)是BX53M顯微鏡的另一大亮點。該軟件不僅提供了基本的圖像處理功能,如長度、周長、面積等測量,還具備高級的圖像分析功能,如景深合成和圖像拼接。這些功能使得研究人員能夠對樣品進行精確的定量分析,提高了研究效率和準確性。同時,軟件的用戶界面友好,操作簡便,降低了使用門檻。

四、應用領域與前景展望

奧林巴斯BX53M反射明暗場顯微鏡憑借其技術參數和靈活的配置選項,在材料科學、金屬學、半導體工業等多個領域展現出了廣泛的應用前景。在材料科學領域,BX53M顯微鏡可用于研究材料的微觀結構和性能關系;在金屬學領域,它可用于金相分析和失效分析;在半導體工業領域,BX53M顯微鏡則可用于芯片檢測和封裝質量評估。

隨著科學技術的不斷進步和應用需求的日益多樣化,BX53M顯微鏡將繼續發揮其重要作用。未來,隨著光學技術、成像技術和數據處理技術的進一步發展,BX53M顯微鏡有望在更高分辨率、更廣觀察范圍、更智能的數據分析等方面實現突破,為科研和工業應用提供更加全面和高效的解決方案。

結論

奧林巴斯BX53M反射明暗場顯微鏡以其先進的光學架構、物鏡技術、高分辨率的成像系統和強大的數據處理能力,成為了現代科學研究和工業應用中的重要工具。其技術參數和靈活的配置選項使得該顯微鏡能夠適應不同領域的觀察需求,為研究人員提供了清晰、準確的成像效果和豐富的數據分析功能。未來,BX53M顯微鏡將繼續顯微鏡技術的發展潮流,為科學研究和工業應用貢獻更多力量。

奧林巴斯BX53M平場半復消色差物鏡




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