掃描 Kelvin Probe（開爾文探針）可以測量 CPD（接觸電位差）值，評估半導體和導電材料的功函數。該技術起源于19世紀末，最早由英國科學家開爾文勛爵所提出，隨著科學技術的不斷進步，開爾文探針技術逐漸得到改進和完善，應用領域也不斷擴大。目前，開爾文探針技術已經成為表面科學、材料科學、微電子學等領域的重要研究手段。

適用研究范圍

• 材料的功函數

• 費米能級的位置

• n 或 p 型半導體

• 半導體的能隙

• 表面電勢

• 表面態密度

• 表面充放電效應

• 少數載流子擴散長度

• 溫度和濕度對功函數的影響

• 更多特性

探針結構圖

探頭由Instytut Fotonowy設計制造，具有顯著優勢：即使在距樣品 0.5 mm 的距離下，仍能獲取強信號。這使得無論樣品表面粗糙還是拋光，都能夠穩定使用。同時，探頭設計具備透光性，允許垂直光束照射樣品。振蕩由電磁鐵驅動，以確保精準的測量。

掃描開爾文探針系統：掃描開爾文探頭可測量單點接觸電位差（CPD）并掃描整個樣品表面，分析表面狀態，評估表面缺陷和表面態密度等電學特性。

我們提供一系列高性能開爾文探針系統，旨在滿足不同測試需求和應用場景，確保高效、精準的表面分析和電化學測量。無論是基礎的表面功函數研究，還是高精度的電化學樣品分析，我們的系統系列都能夠提供全面的解決方案，助力科研人員在材料科學、電子性能測試和電化學領域取得突破性成果。每款系統都經過精心設計，確保為用戶提供先進的測量精度和可靠性。

1. 單點開爾文探針系統：用于研究功函數，能夠精準測量樣品表面特定位置的接觸電位差（CPD）。

2. 電化學開爾文探針系統：這是一款創新的設備，專為直接測量與電解質接觸的電化學樣品電子功函數設計，無需干燥樣品表面，配備了專用的電化學樣品池。

3. 完整型開爾文探針系統：Fotonowy的完整型開爾文探針系統突破了接觸電位差測量的關鍵瓶頸，實現了精確區分樣品與探針功函數變化。它提供了更高精度的測量，廣泛應用于表面功函數研究、電子性能測試及材料分析。