MKY-SD-3000 離子濺射儀

離子濺射儀外觀亮麗做工精致，旋鈕式定時器檔位清晰，手感舒適；

特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大；

前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體；

調節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質量好；

高壓輸出可使成膜更加牢固快速。

功能控制和定時皆由CPU調度，使用范圍廣。

工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果。

配有高位定性的飛躍真空泵。

離子濺射儀是一款針對做電極研究和半導體研究的儀器，相對于基礎型濺射儀，SD-3000型的鍍層和樣品之間更貼合，更有附著力，以便后續(xù)的研究。

需要鍍膜的樣品

1、電子束敏感的樣品:

主要包括生物樣品，塑料樣品等。SEM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結構。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用，防止此類損傷；

2、非導電的樣品:

由于樣品不導電，其表  面帶有“電子陷阱”，  這種表面上的電子積累  被稱為“充電”。為了  消除荷電效應，可在樣  品表面鍍一層金屬導電  層，鍍層作為一個導電  通道，將充電電子從材  料表面轉移走，消除荷  電效應。在掃描電鏡成  像時，濺射材料增加信  噪比，從而獲得更好的成像質量。

3、新材料:非導電材料和半導體材料

參數(shù)：

主機規(guī)格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）

靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）

靶材：Au（標配）

樣品室：硼硅酸鹽玻璃160mm×120mm（D×H）

靶材尺寸：Ф50mm    

真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2   mbar

離子電流表： 最大電流：50mA

定時器：最長時間：1-360s

微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體：多種

最高電壓： -2800  DCV

機械泵：標準配置2L/S（國產VRD-8）

特點：

1、簡單、經濟、可靠、外觀精美。

2、可調節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

3、SETPLASMA手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。

6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

7、涂層牢固，特別適用于非導體材料實驗電極制作和半導體材料的研究。

MKY-SD-3000 離子濺射儀