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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>熱工藝設備/熱處理設備>退火爐>CY-RTP1200-T8-H RTP快速退火爐管式

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CY-RTP1200-T8-H RTP快速退火爐管式

參考價 56000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市開發區,是一家專業從事材料制備設備研發、生產和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區域提純等研究發展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業知識和豐富的實踐經驗,先后研發出了多款材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發,使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業界好評。

如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業務洽談。

 

 

 

 

磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,

RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。快速退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。

RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。

主要具備以下特點:

1、更短的工藝時間;

2、更快的升、降溫速率;

3、處理基片時雜質運動zui小;

4、減少顆粒沾污;

5、由于腔體體積不大,氣氛純度容易控制.

RTP快速退火爐應用領域:

1、活化離子注入雜質,形成超薄結合。離子注入是半導體制造工藝中非常重要的一道工序,是用來把改變導電率的攙雜材料注入半導體晶片的標準工藝技術。

2、制作高質量的 SiO,膜層。IC 制造對氧化膜層提出了很高的要求其中zui基本的要求使膜層更薄,采用傳統的技術即通過降低氧化反應的溫度來降低氧化速率即會帶來另一個問題,生長溫度的降低會導致固定電荷和界面密度增加,影響氧化層質量。RTP熱氧化工藝可以在合適的高溫下實現短時間的氧化。另一方面,可以利用往腔體內通入氬或其它惰性氣體來稀釋氧氣達到降低氧化速率的目的。

3、用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。

RTP快速退火爐技術參數:

產品名稱

RTP快速退火爐【管式】

產品型號

CY-RTP1200-T8-H

有效尺寸

Φ200mm

基片尺寸

8英寸

升溫速率

B型為標準配置:≦200/S,供電要求:AC380V/60Hz,功率18KW

降溫速率

200℃以上≤25min

控溫模式

可預設曲線,按流程控溫

控溫精度

±1

工作溫度

1000

測溫位置

測溫點置于樣品處

密封法蘭

水冷式

工作真空

10-3Pa105Pa均可

可通氣氛

可通:氮氣,氬氣,氧氣等非危險、非腐蝕氣體

真空測量

標準配置:電阻規,量程1Pa105Pa

選裝配置:復合真空計,量程10-5Pa105Pa

真空系統

標準配置:VRD-4真空泵1

供電要求

要求配備32A2P空氣開關,電源電壓AC380V/60Hz

水冷機組

水箱容量9Lzui大揚程10m

整機尺寸

1200mm   x 610mm x 570mm

包裝尺寸

1475*700*800

包裝重量

180Kg

隨機配件

1、說明書1

2、隨機配件1

3、配件清單1


相關分類

氧化擴散設備


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