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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機>CY-MSH300- II-RFRF-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)

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CY-MSH300- II-RFRF-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)

參考價 260000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發區,是一家專業從事材料制備設備研發、生產和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區域提純等研究發展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業知識和豐富的實踐經驗,先后研發出了多款*材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發,使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業界*好評。

如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業務洽談。




磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,

產地類別 國產 價格區間 10萬-30萬
應用領域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

CY-MSH300- II-RFRF-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)為我公司研發的實驗室專用鍍膜儀,設備可選配直流電源,和射頻電源,功率從500W-1000W不等,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時間穩定工作。  

設備經過緊湊化設計,實現了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。  

磁控鍍膜儀典型應用:

•    科研領域:納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。

•    電子行業:半導體、傳感器、導電薄膜制備。

•    教學演示:材料科學、真空技術實驗教學。

•    以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例,涵蓋科研、工業及教學領域,體現其多功能性和廣泛應用價值:

雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)技術參數:


項目  

明細  

產品型號  

CY-MSH300- II-RFRF-SS  

供電電壓  

AC220V50Hz  

整機功率  

4KW  

系統真空  

5×10-4Pa  

樣品臺  

外形尺寸  

φ185mm  

加熱溫度  

500℃  

控溫精度  

±1  

可調轉速  

20rpm  

磁控靶槍  

靶材尺寸  

直徑Φ50.8mm,厚度3mm  

冷卻模式  

循環水冷  

水流大小  

不小于10L/Min  

真空腔體  

腔體尺寸  

直徑φ325mm,高度500mm  

腔體材質  

SUU304不銹鋼  

觀察窗口  

直徑φ100mm  

開啟方式  

頂開式  

氣體控制  

1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM  

真空系統  

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S  

膜厚測量  

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?  

濺射電源  

射頻電源500W*2  

控制系統  

CYKY自研專業級控制系統  

設備尺寸  

600mm   × 650mm × 1280mm  

設備重量  

350kg  



 





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