 | 天津中環電爐股份有限公司 |
13
022-26980130
當前位置：首頁>>技術中心>>技術文章>>談談CVD系統的組成與特點
在線溝通：
魏女士
- 電話：
- 022-26980130
- 手機：
- 15122725930
- 售后電話：
- 15122725930
- 傳真：
- 聯系我時，
- 告知來自化工儀器網
- 個性化：
- www.ctjzh.net
- 公司網站：
- www.ctjzh.com
談談CVD系統的組成與特點
閱讀：9618發布時間：2017-7-20
CVD系統設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域
實驗機理：CVD成長系統是利用氣態化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發生化學反應，從而在基體表面上生成不揮發涂層的一種薄膜材料制備系統
CVD系統產品的特點：
1 CVD系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
2 CVD系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長
3 CVD系統使用計算機控制，可以設置多種生長參數
4 CVD系統可以制備高質量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達數厘米，研究動力學過程
5 CVD系統沉積效率高;薄膜的成分可控，配比范圍大;厚度范圍廣，由幾百埃至數毫米，可以實現厚膜沉積且能大量生產
天津中環電爐股份有限公司主營產品：氣氛管式爐，高溫箱式電爐，高溫鐘罩爐
化工儀器網 設計制作，未經允許翻錄必究.Copyright(C) http://www.wanmeizu.com, All rights reserved.
以上信息由企業自行提供，信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責，化工儀器網對此不承擔任何保證責任。 溫馨提示：為規避購買風險，建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。
