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岱美儀器技術服務（上海）有限公司

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當前位置：岱美儀器技術服務（上海）有限公司>>產品展示>>EVG光刻機>>掩模對準曝光機

  • EVG量產型光刻機系統 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：HERCULES
    光刻機Track系統通過集成的生產系統和結合掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理的高度自動化功能，完善了EVG光刻機產品系列。HERCULES光刻機Track...
    型號： HERCULES 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    HERCULESEVG納米壓印光刻機
    2025/5/20 11:59:294999

  • EVG儀器自動掩模對準系統 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：IQ Aligner NT
    ?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件，新的晶圓處理硬件，可實現全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優化的工具軟件...
    型號： IQ Aligne... 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    光刻機光刻掩膜掩模曝光
    2025/5/20 13:17:542457

  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：
    EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。
    型號： 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    自動掩模對準系統對準系統光刻機光刻機價格納米壓印機
    2024/11/9 13:13:264083

  • IQ Aligner 自動掩模對準系統 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：
    IQ Aligner 自動掩模對準系統 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米。
    型號： 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    自動掩模對準系統對準系統光刻機光刻機價格
    2024/11/9 12:34:332970

  • EVG單面/雙面掩模對準光刻機 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：EVG610
    EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610（單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準...
    型號： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    EVG光刻機微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機
    2024/11/9 12:10:2910311
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