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這套無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術的便利，大大提高無掩膜影印和新產品研發的效率，節省時間，是的無掩模光刻系統。
這款無掩模光刻機直接用375nm或405nm紫外激光把圖形寫到光膠襯底上。
無掩模光刻系統，無掩膜光刻機特色
尺寸：925x925x1600mm
內置計算機控制接口
激光光源：375nm或405nm
視頻輔助定位系統
自動聚焦設置
無掩模光刻機，無掩膜光刻機參數
線性寫取速度：>500mm/s
重復精度： 100nm
晶圓寫取面積：1—6英寸
襯底厚度：250微米-10毫米
激光點大小：1-100微米
準直精度：500nm
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