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貨物所在地：上海上海市
所在地： 美國
更新時(shí)間：2024-09-04 10:15:23
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這款光學(xué)薄膜測(cè)厚儀采用光譜反射計(jì)技術(shù)測(cè)量薄膜反射光譜進(jìn)測(cè)量薄膜厚度和測(cè)量薄膜折射率等參數(shù)，非常適合日常已知膜系膜堆測(cè)量。
這款光學(xué)薄膜測(cè)厚儀具有較長(zhǎng)工作距離，工作距離可調(diào)，超大樣品臺(tái)，可選光源等特點(diǎn)。
光學(xué)模板測(cè)厚儀特點(diǎn)
易于安裝
軟件基于Windows系統(tǒng)，方便使用
良好光學(xué)設(shè)計(jì)，良好系統(tǒng)表現(xiàn)
陣列光譜探測(cè)器保證快速測(cè)量
測(cè)量薄膜厚度和折射率高達(dá)5層
可測(cè)量反射，透射和吸收光譜
可用于實(shí)時(shí)在線的薄膜厚度和折射率測(cè)量
具有齊全的材料光譜舍數(shù)據(jù)庫
可升級(jí)到顯微分光光度計(jì)
適合不同襯底和不同薄膜厚度測(cè)量
光學(xué)薄膜測(cè)厚儀參數(shù)
波長(zhǎng)范圍：250-1100nm
光點(diǎn)大小：500um - 5mm
樣品大小：200x200mm 或200mm 直徑
襯底厚度： 高達(dá)50um
測(cè)量薄膜厚度范圍： 2nm -50um
測(cè)量時(shí)間：zui小2ms
精度：0.5%
重復(fù)精度：<1A
光學(xué)薄膜測(cè)厚儀應(yīng)用
半導(dǎo)體制造
液晶顯示屏測(cè)量
刑偵
生物膜測(cè)量
礦石地質(zhì)分析
制藥醫(yī)學(xué)分析
光學(xué)鍍膜測(cè)量
功能薄膜MEMS測(cè)量
太陽能電池薄膜測(cè)量
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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