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貨物所在地：上海上海市
所在地： 美國(guó)
更新時(shí)間：2024-09-04 10:36:52
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薄膜厚度均勻性測(cè)量?jī)x采用光譜反射計(jì)技術(shù)測(cè)量整個(gè)樣品薄膜面積的薄膜厚度和薄膜折射率等參數(shù)，獲得整面薄膜厚度分布和薄膜厚度均勻性參數(shù)。
這款薄膜厚度均勻性測(cè)量?jī)x具有較長(zhǎng)工作距離，工作距離可調(diào)，超大樣品臺(tái)，可選光源等特點(diǎn)。
薄膜厚度均勻性測(cè)量?jī)x特點(diǎn)
易于安裝
軟件基于Windows系統(tǒng)，方便使用
**光學(xué)設(shè)計(jì)，良*系統(tǒng)表現(xiàn)
陣列光譜探測(cè)器保證快速測(cè)量
測(cè)量薄膜厚度和折射率高達(dá)5層
可測(cè)量反射，透射和吸收光譜
可用于實(shí)時(shí)在線(xiàn)的薄膜厚度和折射率測(cè)量
具有齊全的材料光譜舍數(shù)據(jù)庫(kù)
可升級(jí)到顯微分光光度計(jì)
適合不同襯底和不同薄膜厚度測(cè)量
薄膜厚度均勻性測(cè)量?jī)x參數(shù)
波長(zhǎng)范圍：250-1050nm
光點(diǎn)大小：500um - 5mm
樣品大?。?00mm 直徑
襯底厚度： 高達(dá)50um
測(cè)量薄膜厚度范圍： 10nm -50um
重復(fù)定位精度：1um
測(cè)量時(shí)間：***小2ms
精度：0.5%
重復(fù)精度：<1A
薄膜厚度均勻性測(cè)量?jī)x應(yīng)用
半導(dǎo)體制造
液晶顯示屏測(cè)量
刑偵
生物膜測(cè)量
礦石地質(zhì)分析
制藥醫(yī)學(xué)分析
光學(xué)鍍膜測(cè)量
功能薄膜MEMS測(cè)量
太陽(yáng)能電池薄膜測(cè)量
太陽(yáng)能電池薄膜測(cè)量
薄膜厚度均勻性測(cè)量?jī)x軟件操作界面
薄膜厚度均勻性測(cè)量?jī)x軟件結(jié)果
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
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