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更新時(shí)間：2024-08-21 16:08:19
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大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應(yīng)用設(shè)計(jì)的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動(dòng)化學(xué)分配,2條自動(dòng)靜態(tài)分配線,氣動(dòng)蓋打開和關(guān)閉，卡盤適配器和一個(gè)真空卡盤，最多可用于3個(gè)晶片，速度最大1500rpm，腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數(shù)
桌面型號，獨(dú)立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動(dòng)化學(xué)品分配，2條自動(dòng)靜態(tài)分配線
氣動(dòng)蓋打開和關(guān)閉
卡盤適配器和一個(gè)真空卡盤，最多可用于3種晶片尺寸
最高轉(zhuǎn)速1500rpm
腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應(yīng)用設(shè)計(jì)的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動(dòng)化學(xué)分配,2條自動(dòng)靜態(tài)分配線,氣動(dòng)蓋打開和關(guān)閉，卡盤適配器和一個(gè)真空卡盤，最多可用于3個(gè)晶片，速度最大1500rpm，腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數(shù)
桌面型號，獨(dú)立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動(dòng)化學(xué)品分配，2條自動(dòng)靜態(tài)分配線
氣動(dòng)蓋打開和關(guān)閉
卡盤適配器和一個(gè)真空卡盤，最多可用于3種晶片尺寸
最高轉(zhuǎn)速1500rpm
腔室最大直徑約450mm
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