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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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紫外臭氧清洗優(yōu)點(diǎn)：
1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體
（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。
2. 表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不
會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
4. 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠
射入材料表面的極為 細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的*性。
相關(guān)應(yīng)用
■在進(jìn)行薄膜沉積之前*行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。
■清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽能面板，冷軋鋼，慣性引導(dǎo)零件和 GaAs芯片
■清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器
■蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機(jī)材料
■增強(qiáng)GaAs 和Si氧化物鈍化表面
■增強(qiáng)玻璃的除氣作用
■基片藍(lán)膜去除
■增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性
■基片終測(cè)后墨跡清楚
■去除光刻膠
■平板顯示器/液晶顯示器
■去除光刻機(jī)臺(tái)上的光刻膠殘留物
■在電路板封裝和打片之前清洗）
■光纖
■增強(qiáng)表面親水特性
■為生物科學(xué)應(yīng)用做清洗和消毒
■光學(xué)透鏡
■其它應(yīng)用
臭氧發(fā)生器
Ozone Generator
臭氧（氧化電位2.7eV）的反應(yīng)活性相當(dāng)強(qiáng)，是一種強(qiáng)氧化劑。在許多新領(lǐng)域的研發(fā)過程中，它逐漸成為*的元素之一。其中包含化學(xué)實(shí)驗(yàn)室，大學(xué)以及電子，醫(yī)藥，化學(xué)，生物和醫(yī)學(xué)研究機(jī)構(gòu)。在工業(yè)應(yīng)用的范圍也增加許多。例如半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，環(huán)境研究。飲用水及污水處理，塑料和包裝產(chǎn)業(yè)以及食品加工技術(shù)。臭氧也被常用為殺菌與消毒液體，氣體和固體有機(jī)物質(zhì)。無論是單一的實(shí)驗(yàn)室或?qū)嶒?yàn)工廠，甚至工業(yè)生產(chǎn)的規(guī)模，由于新的技術(shù)，使生產(chǎn)臭氧不再成為經(jīng)濟(jì)負(fù)擔(dān)。本公司的產(chǎn)品專門使用低壓汞氣燈所放射出的短波紫外線，來產(chǎn)生純凈的臭氧。訂購時(shí)，請(qǐng)指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的電源供應(yīng)器。
