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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
1. 多樣化工藝支持
支持等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）、反應(yīng)離子刻蝕（RIE）、化學(xué)氣相沉積（CVD）和原子層沉積（ALD）等多種表面處理工藝。
使用射頻（RF）或微波等離子體，適用于低壓環(huán)境。
2. 緊湊型設(shè)計(jì)
系統(tǒng)整體尺寸約寬32英寸、深22英寸、高24英寸，適合桌面操作。
沉積腔室直徑為8英寸，高度6-10英寸，可處理最大4英寸直徑的基板。
3. 靈活的真空系統(tǒng)
配備干式/濕式機(jī)械泵（6-9 cfm），可選渦輪分子泵（80-90 L/s，用于ICP源），適應(yīng)不同真空需求。
4. 高自動(dòng)化控制
全計(jì)算機(jī)控制，內(nèi)置PLASMICON控制軟件，支持工藝配方自動(dòng)化。
可編程RF發(fā)生器（120W-300W）搭配自動(dòng)阻抗匹配網(wǎng)絡(luò)，確保穩(wěn)定等離子體生成。
5. 基板處理能力
基板支架可選水冷或加熱至300°C，適應(yīng)不同材料需求。
支持雙工藝氣體線路和自動(dòng)排氣系統(tǒng)，提升工藝靈活性。
6. 實(shí)時(shí)監(jiān)控與分析
集成光學(xué)光譜選項(xiàng)，用于工藝過程監(jiān)控與調(diào)控。
10英寸觸摸屏界面，提供實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、采集及用戶友好交互。
7. 擴(kuò)展性與安全
可選水冷系統(tǒng)和渦輪泵站，增強(qiáng)系統(tǒng)性能。
數(shù)據(jù)采集與存儲(chǔ)功能，確保工藝可追溯性。
8. 應(yīng)用領(lǐng)域
適用于半導(dǎo)體、納米材料、光學(xué)涂層等領(lǐng)域的研發(fā)與小規(guī)模生產(chǎn)。
這些特點(diǎn)使Plasmionique系統(tǒng)成為多功能、高精度且用戶友好的表面處理解決方案，兼顧科研與工業(yè)需求。
Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE
