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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯是微電子領域的重要材料。PMMA是一種用途廣泛的聚合物，適用于多種成像和非成像微電子應用。它常被用作電子束直寫、X射線和深紫外光刻工藝中的高分辨率正性光刻膠，也可用作晶圓減薄的保護涂層、鍵合粘合劑以及犧牲層。
標準PMMA產品膜厚范圍廣，由分子量為495,000和950,000的樹脂，搭配氯苯或更安全的苯甲醚溶劑制成。還可根據需求提供分子量在50,000 - 220萬的定制產品。此外，共聚物（MMA (8.5) MAA）產品使用更安全的乳酸乙酯溶劑配制。產品包裝規格從500毫升到20升不等。
在使用時，需遵循特定的加工指南。首先，要確保基板清潔干燥，常用且推薦的清潔方式有溶劑清洗、氧氣等離子體清洗和臭氧清洗 。涂覆時，可參考薄膜厚度與自旋速度曲線選擇合適的PMMA稀釋度和自旋速度。不同產品的預烘烤、曝光、顯影、后烘烤（可選）等環節都有對應的溫度、時間、劑量等參數要求。顯影后，要用1:3或1:4的甲基異丁基酮（MIBK）與異丙醇（IPA）混合液、酒精或去離子水進行沖洗和干燥，以終止顯影過程并防止產生浮渣。PMMA和共聚物抗蝕劑可以使用MCC的Remover PG或標準潔凈室溶劑去除 。
操作過程中，要注意安全。由于PMMA溶液易燃，應避免接觸眼睛、皮膚和衣物，在通風良好的環境下使用，避免吸入煙霧，操作時需佩戴化學防護眼鏡、手套。該產品與玻璃、陶瓷等多種材料兼容，但氯苯會腐蝕部分彈性體和塑料，建議使用VITON A材質的O型圈和 tubing。儲存時，應將產品直立放置在干燥區域，溫度保持在10 - 27°C，避免冷藏，遠離火源、光線、熱源、氧化劑、酸和還原劑。
PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯
