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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨
TMAH是四甲基氫氧化銨（Tetramethylammonium hydroxide）的英文縮寫，是一種重要的有機強堿，在多個工業領域具有不可替代的作用。常溫下通常以無色透明液體形式存在，具有強堿性，在空氣中易吸收二氧化碳生成碳酸鹽，導致濃度變化，需密封保存。
在**半導體與集成電路制造**中，TMAH是核心材料之一。作為光刻工藝的顯影劑，它能選擇性溶解未曝光的光刻膠（尤其適用于正性光刻膠），將掩膜版圖案精確轉移到硅片表面，助力形成亞微米級甚至納米級電路圖形。同時，它可用于硅片的濕法刻蝕，通過控制濃度和溫度，實現對硅材料的定向腐蝕，常用于制作微機電系統（MEMS）的傳感器、執行器等精密結構。
在**液晶顯示（LCD）產業**，TMAH用于取向層蝕刻，通過精確調控液晶分子排列方向，保障顯示器的顯示效果和穩定性。此外，它還可作為玻璃基板的清洗液，有效去除表面雜質和污染物，確保液晶盒封裝質量。
在**印刷電路板（PCB）制造**中，TMAH可用于銅層蝕刻，通過化學反應去除多余銅箔，形成所需電路線路，其蝕刻過程易控制、邊緣平整，能滿足高精度電路板的制作需求。
TMAH的強腐蝕性使其在使用中需嚴格防護，操作人員需佩戴耐化學手套、護目鏡，避免直接接觸皮膚、眼睛和呼吸道。儲存時需遠離酸性物質、氧化劑，防止發生中和反應或爆炸。含TMAH的廢液需經中和、降解等處理后再排放，以符合環保要求。憑借其化學性質，TMAH在微電子、顯示技術等高科技領域中持續發揮著關鍵作用。
正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨
