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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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NX-B100多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印） | zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 |
NX-B200多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印） | zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 |
NX-1000多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印） | 標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 |
NX-2000多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印） | 標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 |
NX-2500 多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印系統(tǒng) | 標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印 對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平臺 分場光學和CCD相機 |
NX-2600 多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統(tǒng) 可選背面對準 | 標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印 對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平臺 分場光學和CCD相機 標配5”模板,標配4”直徑基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源 |
Lumina200多功能高精度光刻機 | 4寸基板，5寸掩膜 |
Ultra-100多功能集成清潔和單分子層氣態(tài)鍍膜系統(tǒng) | Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc) Up to 8”×8” |
