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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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閱讀：194 發(fā)布時間：2020/07/31
EDC-650系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導體濕法工藝的經(jīng)驗積累，通過對各路試劑注射的準確控制，對氮氣和去離子水綜合應(yīng)用，能夠完整實現(xiàn)樣片的干進干出。是當今*和經(jīng)濟的濕法處理解決方案。
勻膠顯影機(英文名：Developing)
型號：EDC-650Mz-23NPP
產(chǎn)地：美國
一、產(chǎn)品概述：
650型勻膠顯影機適應(yīng)于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。
二、勻膠顯影機工作原理：
顯影系統(tǒng)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。勻膠顯影機還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。
三、勻膠顯影機主要性能指標：
1、腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米)；
2、Wafer&芯片：直徑6英寸（150毫米）的晶圓片或者5x5英寸（125毫米）的方片；
3、非真空托盤：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤，可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能；
3、轉(zhuǎn)動速度：0-12,000rpm，
5、馬達旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1%；
6、工藝時間設(shè)定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；
7、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制，設(shè)置點精度小于0.006%；
8、程序控制：可存儲20個程序段，每個程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài)；
9、分辨率：分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分，可重復性小于±0.5轉(zhuǎn)/分，美國國家標準技術(shù)研究院（NIST）認證過的，并且無需再校準！]
10、腔體開關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板，便于實時進行可視化操作；
11、腔體材質(zhì)說明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體；
12、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件；
13、配套真空泵系統(tǒng)：無油型 220~240伏交流，50/60赫茲；
