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射頻磁控濺射鍍膜裝置/磁控濺射鍍膜裝置

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號DP-HRM-1

品       牌

廠商性質生產商

所  在  地北京市

更新時間:2016-09-27 12:02:09瀏覽次數:1355次

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掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理;

2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍;

3、磁控濺射法制備金屬膜、半導體膜、化合物膜、介質膜等薄膜。


 

射頻磁控濺射鍍膜裝置/磁控濺射鍍膜裝置 型號;DP-HRM-1

可開設的實驗

1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理;

2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍;

3、磁控濺射法制備金屬膜、半導體膜、化合物膜、介質膜等薄膜。

主要參數

    1、濺射鍍膜室:由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成;有效尺寸:Φ220×H230mm3

    2、濺射鍍膜室本底真空:≤1Pa;濺射腔限真空:6×10-1Pa;

    3、濺射靶:Φ50mm,濺射靶臺和濺射靶可調距離:20~60mm;

    4、基片加熱溫度可控范圍:室溫~300℃;

5、射頻源率:500W,13.56MHz;

6、氣路系統:由兩路轉子流量計控制(可選配質量流量計);

    7、真空系統:2XZ-4型旋片真空泵,抽氣速率:4L/S,單相220V交流電源供電;

    8、對過流過壓、斷路等異常情況行報警,并執行相應保護措施;

    9、供電電源:AC220V,50Hz,整機率2KW。

2.

磁力攪拌器
 
 
 
商品名稱:大率磁力攪拌器 磁力攪拌器 大率攪拌器
商品型號:DP-99-1
 

大率磁力攪拌器 磁力攪拌器 大率攪拌器 型號:DP-99-1

、DP-99-1大率磁力攪拌器用途
大率磁力攪拌器能在較廣的速度范圍內對液體溶液行穩定的攪拌,特別適合小體積的樣品,是石油、化、藥衛生、環保、生化實驗室、分析室、教育科研的具。


二、大率磁力攪拌器
基本參數:

1.電源:220V 50HZ

2.加熱率:600W

3.作臺面積:300*300(MM)

4.攪拌容量:100-10000(ML)
www.51298264.com

 

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