儀器簡(jiǎn)介：
   電子束入射到樣品上，即可用光學(xué)方法接收并分析陰發(fā)光（CL），從而提供樣品詳細(xì)的物理特性。它是一種無(wú)損的分析方法，結(jié)合電鏡可提供與形貌相關(guān)的高空間分辨率光譜結(jié)果，是納米結(jié)構(gòu)和體材料的*分析工具。
    HCLUE是一款基于反射鏡耦合優(yōu)化的CL系統(tǒng)，結(jié)合了Jobin Yvon光譜技術(shù)制造的光譜儀模塊，具有高靈敏度性能，適用于弱信號(hào)測(cè)量。可同時(shí)配備兩個(gè)探測(cè)器，以獲得更大光譜范圍。

                                  原理圖

主要特點(diǎn)：
● 反射鏡直接耦合
● 高靈敏度
● 掃描成像、線(xiàn)掃描、點(diǎn)測(cè)量
● 多種光柵選項(xiàng)
● 多種焦長(zhǎng)光譜儀選項(xiàng)：320mm-550mm
● 可配雙探測(cè)器以獲得zui大光譜范圍：185nm-2500nm

重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域：
    陰發(fā)光光譜儀（CL）是用來(lái)表征材料中的缺陷，元素和雜質(zhì)追蹤的強(qiáng)大分析工具，廣泛適用于各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域。

1、材料科學(xué)

● 半導(dǎo)體和光電材料
● 介電/陶瓷   
● 氧化物膜           
● 玻璃
2、礦物、地質(zhì)
● 碳酸巖       
● 晶體   
● 金剛石    
● 鋯石、方解石、白云石

3、生命科學(xué)
4、*

CL光譜及成像：

■CL光譜：使用CL測(cè)量光譜時(shí)，可在電鏡下觀(guān)察并選擇待測(cè)樣品區(qū)域。	■快速CL成像：將掃描電子束與您的光譜儀同步，提供快速成像方案。使用HCLUE系統(tǒng)測(cè)量的GaN樣品，測(cè)量中使用了超快SWIFTTM成像模式。
礦物樣品中的白云石和磷酸鈣。測(cè)量使用Flex-CLUE系統(tǒng)，配備iHR320光譜儀和開(kāi)放電式CCD探測(cè)器。感謝Prof A. Jambon, UPMC France提供數(shù)據(jù)	左圖：使用偽彩色顯示350nm-450nm之間發(fā)射光譜區(qū)。figure 1, Hyperspectral CL mapping 中圖：電鏡下的樣品圖像。figure 2, SE image 右圖：對(duì)應(yīng)的光譜，其中不同色彩區(qū)域與左圖中顯示的顏色對(duì)應(yīng)。figure 3, CL spectral (RGB)