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批量式電漿輔助氣相沉積設備
  • 批量式電漿輔助氣相沉積設備
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貨物所在地:北京北京市

更新時間:2025-07-21 21:00:08

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批量式電漿輔助氣相沉積設備為一種使用化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。

批量式電漿輔助氣相沉積設備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。

此系統為專對派瑞林(Parylene)所設計,其腔體內部具有公自轉知特性,並批量式生產。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性??蓱渺豆怆娫庋b、電路板絕緣…等。

批量式電漿輔助氣相沉積設備參數:

應用領域腔體
  • 醫療和商業產品的耐磨薄膜

  • 封裝、絕緣

  • 防刮顯示屏

  • 客製化的腔體尺寸,取決於基板尺寸和其應用

  • 通過使用水冷、水熱系統或加熱器來控制腔體溫度


配置和優點選件
  • 客製化的基板

  • 多載片

  • 優異的薄膜均勻性小於+-3%

  • 精準流量控制器,氣體分佈高度均勻

  • 使用電容式藕荷電漿(CCP)






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